[发明专利]沉积用掩模及其制造方法

权利要求书

1.一种沉积用掩模，包括：

阻断部，包括主阻断部件和辅助阻断部件而构成；以及

多个开口部，布置在所述阻断部的内部，并包括第一开口部和第二开口部；

其中，所述阻断部包括：一面；另一面，与所述一面对向；内侧面，向所述开口部暴露；一侧端部，位于所述一面和所述内侧面的交叉点，并且包括锐角的尖端形状；以及另一侧端部，位于所述另一面和所述内侧面的交叉点，

所述第一开口部周围的所述阻断部的所述一侧端部包括包含所述辅助阻断部件而构成的第一端部。

2.如权利要求1所述的沉积用掩模，其中，

所述第一端部的所述辅助阻断部件布置在所述主阻断部件上。

3.如权利要求2所述的沉积用掩模，其中，

所述第二开口部周围的所述阻断部的所述一侧端部包括在没有所述辅助阻断部件的情况下包括所述主阻断部件而构成的第二端部，

所述第一端部的所述主阻断部件的形状与所述第二端部的所述主阻断部件的形状不同，

将所述第一端部的所述辅助阻断部件和所述主阻断部件结合而成的形状与所述第二端部的所述主阻断部件的形状相同。

4.如权利要求2所述的沉积用掩模，其中，

所述第一端部的所述辅助阻断部件和所述主阻断部件相互直接接触，在接触面形成界面。

5.如权利要求2所述的沉积用掩模，其中，

所述第一端部的辅助阻断部件包括通过界面而被区分的多个子辅助阻断部件。

6.如权利要求1所述的沉积用掩模，其中，

所述阻断部的所述内侧面由所述辅助阻断部件的辅助内侧面和所述主阻断部件的主内侧面构成。

7.一种沉积用掩模的制造方法，包括如下步骤：

供应包括主阻断部件和布置在所述主阻断部件内部的多个开口部的掩模部件；以及

在至少一部分所述开口部的周围的所述主阻断部件上形成辅助阻断部件。

8.如权利要求7所述的沉积用掩模的制造方法，其中，

所述开口部包括正常开口部和受损开口部，形成所述辅助阻断部件的步骤是在所述受损开口部周围的所述主阻断部件上形成所述辅助阻断部件的步骤，

形成所述辅助阻断部件的步骤是与所述正常开口部的形状相同地形成所述受损开口部的形状的步骤。

9.如权利要求8所述的沉积用掩模的制造方法，其中，

形成所述辅助阻断部件的步骤包括如下步骤：

将所述掩模部件布置在支撑台上，向所述受损开口部内供应包括辅助阻断部件用物质的墨水的步骤；

利用具有所述开口部的立体形状且包括弹性物质的加压结构体而对被供应所述墨水的所述开口部加压；以及

将所述辅助阻断部件用物质固化。

10.如权利要求9所述的沉积用掩模的制造方法，其中，

所述辅助阻断部件用物质包括金属，

固化所述辅助阻断部件用物质的步骤通过金属镀覆工序进行。