[发明专利]沉积用掩模及其制造方法

说明书

本发明提供沉积用掩模及其制造方法。沉积用掩模包括：阻断部，包括主阻断部件和辅助阻断部件而构成；以及多个开口部，布置在所述阻断部的内部，并包括第一开口部和第二开口部；其中，所述阻断部包括：一面；另一面，与所述一面对向；内侧面，向所述开口部暴露；一侧端部，位于所述一面和所述内侧面的交叉点，并且包括锐角的尖端形状；以及另一侧端部，位于所述另一面和所述内侧面的交叉点，所述第一开口部周围的所述阻断部的所述一侧端部包括包含所述辅助阻断部件而构成的第一端部。

技术领域

本发明涉及一种沉积用掩模及其制造方法。

背景技术

显示装置中的有机发光显示装置作为自发光型显示元件，视角广且对比度优异，不仅如此，还具有响应速度快的优点，因此作为下一代显示装置受关注。

这种有机发光显示装置在彼此对向的电极之间包括诸如发光层等的中间层。所述电极和中间层可以以多种方法形成，其中的一个方法为沉积方法。

为了利用沉积方法制造有机发光显示装置，在基板紧贴具有与将要形成在基板的薄膜的图案相同的图案开口的沉积用掩模(例如，精细金属掩模(FMM：Fine MetalMask))，然后通过沉积用掩模将沉积物质沉积在基板而形成期望的图案的薄膜。

沉积用掩模通常可以利用湿法蚀刻方法在金属基材形成图案开口而制造，或者可以利用激光照射方法在金属基材形成图案开口而制造。

发明内容

制造的沉积用掩模在被利用到沉积工艺时，或者在清洗的过程中，坡台部分有可能受损，在受损的部分有可能发生阴影效应(Shadow Effect)而产生沉积不良。因此，通常在坡台受损的情形下，相应沉积用掩模会被报废。

本发明所要解决的课题为提供一种可以修复(Repair)坡台部分受损的沉积用掩模，从而防止阴影效应(Shadow Effect)，并且通过恢复受损的部分而能够再次使用的沉积用掩模。

本发明所要解决的另一课题在于提供一种可以修复(Repair)坡台部分受损的沉积用掩模，从而防止阴影效应(Shadow Effect)，并且通过恢复受损的部分而能够再次使用的沉积用掩模的制造方法。

本发明的课题并不限于以上所提及的课题，本领域技术人员可以通过以下的记载而明确理解未提及的其他技术课题。

用于解决所述课题的根据一实施例的沉积用掩模，包括：阻断部，并包括主阻断部件和辅助阻断部件而构成；以及多个开口部，布置在所述阻断部的内部，包括第一开口部和第二开口部；其中，所述阻断部包括：一面；另一面，与所述一面对向；内侧面，向所述开口部暴露；一侧端部，位于所述一面和所述内侧面的交叉点，并且包括锐角的尖端形状；以及另一侧端部，位于所述另一面和所述内侧面的交叉点，所述第一开口部周围的所述阻断部的所述一侧端部包括包含所述辅助阻断部件而构成的第一端部。

所述第一端部的所述辅助阻断部件可以布置在所述主阻断部件上。

所述第二开口部周围的所述阻断部的所述一侧端部可以包括在没有所述辅助阻断部件的情况下包括所述主阻断部件而构成的第二端部。

所述第一端部的所述主阻断部件的形状可以与所述第二端部的所述主阻断部件的形状不同。

将所述第一端部的所述辅助阻断部件和所述主阻断部件结合而成的形状可以与所述第二端部的所述主阻断部件的形状相同。

所述第一端部的所述辅助阻断部件和所述主阻断部件相互直接接触，且可以在接触面形成界面。

所述辅助阻断部件和所述主阻断部件可以由相同的物质构成。

所述第一端部的辅助阻断部件可以包括通过界面而被区分的多个子辅助阻断部件。

所述各子辅助阻断部件可以由相同物质构成。