[发明专利]一种等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202010187524.1 | 申请日： | 2020-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN113410113A | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 陈煌琳;吴狄;毛杰 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;张静洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子体处理装置，包括处理模块及前端模块，处理模块包括反应腔、设置在反应腔上端口的反应腔窗体、盖设于反应腔窗体上的反应腔盖体，反应腔盖体与反应腔窗体之间形成有内部空间，反应腔的下方设置有基座，基座上方为等离子体处理区域；前端模块包括洁净腔、设置在洁净腔上端口的洁净腔窗体、盖设于洁净腔窗体上的洁净腔盖体，洁净腔盖体与洁净腔窗体之间形成有容设空间，洁净腔的下方设置有承载台，承载台的上方设置有风机过滤单元；进一步包括气体调节器，气体调节器的一端通过气体管道连接于处理模块的内部空间以向其内输送冷气，气体调节器的另一端通过气体管道连接于前端模块的容设空间以向其内输送热气。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
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