[发明专利]包括存储器单元和在存储器单元之间的屏蔽材料的集成组合件及其形成方法有效
| 申请号： | 202010093160.0 | 申请日： | 2020-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN111697054B | 公开（公告）日： | 2023-10-20 |
| 发明（设计）人： | 山·D·唐;祐川光成;山本裕介;C·J·卡瓦姆拉;竹谷博昭 | 申请（专利权）人： | 美光科技公司 |
| 主分类号： | H01L29/06 | 分类号： | H01L29/06;H01L23/58;H10B12/00;H01L21/763 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 王龙 |
| 地址： | 美国爱*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请案涉及包括存储器单元及在所述存储器单元之间的屏蔽材料的集成组合件，以及形成集成组合件的方法。一些实施例包含具有埋置式字线、屏蔽板和存取装置的存储器装置。所述存取装置包含第一扩散区域和第二扩散区域以及沟道区域。所述扩散区域和所述沟道区域经垂直布置，以使得所述沟道区域在所述第一扩散区域与所述第二扩散区域之间。所述字线与所述沟道区域的第一侧表面邻近，且所述屏蔽板与所述沟道区域的第二侧表面邻近，其中所述第一侧表面和所述第二侧表面彼此相对。一些实施例包含形成集成组合件的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 存储器 单元 之间 屏蔽 材料 集成 组合 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
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