[发明专利]耐磨性得到改善的具有干涉涂层的光学制品有效

专利信息
申请号: 201980067837.9 申请日: 2019-10-17
公开(公告)号: CN112867945B 公开(公告)日: 2023-06-16
发明(设计)人: B·恩普林;N·迈特尔;S·基亚罗托 申请(专利权)人: 依视路国际公司
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 刘娜;张振军
地址: 法国沙*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种光学制品,所述光学制品包括具有至少一个主面的基材,所述至少一个主面依次涂覆有:包含铬、硅和氧的层;厚度大于或等于100nm的单层子层;多层干涉涂层,所述多层干涉涂层包括折射率高于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或更小的至少一个低折射率层的堆叠体,其中,比率(I)大于或等于1.5,并且所述光学制品具有根据ASTM F735‑81标准确定的大于或等于7的拜耳值。
搜索关键词: 耐磨性 得到 改善 具有 干涉 涂层 光学 制品
【主权项】:
暂无信息
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