[发明专利]耐磨性得到改善的具有干涉涂层的光学制品

说明书

本发明涉及一种光学制品，所述光学制品包括具有至少一个主面的基材，所述至少一个主面依次涂覆有：包含铬、硅和氧的层；厚度大于或等于100nm的单层子层；多层干涉涂层，所述多层干涉涂层包括折射率高于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或更小的至少一个低折射率层的堆叠体，其中，比率(I)大于或等于1.5，并且所述光学制品具有根据ASTM F735‑81标准确定的大于或等于7的拜耳值。

本发明涉及一种光学制品，所述光学制品包括涂覆有多层透明干涉涂层、典型地减反射涂层的基材，具有改进的耐磨性和良好的粘附性，特别是涉及一种眼科镜片，并且涉及一种制造这种光学制品的方法。

对光学基材的至少一个主表面涂覆若干涂层以便为成品制品赋予附加的或改进的光学特性或机械特性是本领域的惯常做法。这些涂层通常指定为功能涂层。

可以用于赋予多种机械特性和/或光学特性的各种涂层可以是耐冲击涂层、耐磨涂层和/或耐划伤涂层、减反射涂层和/或反射涂层、和/或防污层和/或防雾层。

在文献中可以找到改进光学制品的耐磨性的不同方法。例如，比如在JP 2003-195003和JP 2003-294906中已经提出了增加减反射涂层的总厚度，其中描述了一种镜片，所述镜片涂覆有底漆涂层、硬涂层、以及7层减反射涂层，所述减反射涂层包括交替的SiO₂层和TiO₂层，后者在离子辅助下沉积并且已知对于光降解作用是敏感的。

US 8982466涉及一种光学镜片，所述光学镜片具有硬涂层和多层减反射涂层，其中，由TiO₂制成的高折射率层总共具有小于40nm的厚度。

EP 2775341披露了一种眼镜镜片，所述眼镜镜片具有硬涂层、360-390nm厚的SiO₂子层、以及由SiO₂、ZrO₂和/或Ta₂O₅制成的4层干涉涂层，其中，所述层具有特定的纳米压痕硬度和压应力，并且通常通过离子辅助气相沉积来沉积。这种沉积技术增加了压应力，并且因此可能导致分层。

JP 2002-122820描述了一种有硬涂层的基材，所述有硬涂层的基材涂覆有物理厚度为89-178nm(光学厚度：在520nm，为0.25-0.5λ)的SiO₂子层和4层减反射涂层(ZrO₂/SiO₂/ZrO₂/SiO₂)。根据本文件，通过能够使涂层厚度和各种材料层之间的应力平衡，可以达到高临界温度。然而，研究的唯一参数是子层的厚度。其厚度应使得比率(SiO₂层(包括子层)的物理厚度之和)/(ZrO₂层的物理厚度之和)的范围是2到3。认为较高的比率是不希望的，因为减反射涂层的耐久性会降低。

US 7692855披露了一种具有减反射特性和高耐热性的光学制品，所述光学制品包括具有至少一个主面的基材，所述至少一个主面涂覆有多层减反射涂层，其中，低折射率层的物理厚度/高折射率层的物理厚度的比率一般大于2.1。

欧洲专利申请EP 3392680提出控制干涉涂层中的层的厚度，以便增加光学制品的耐磨性，即，使用大于或等于2的外部低折射率层/外部高折射率层的物理厚度之比。

EP 1184686描述了一种光学元件，所述光学元件包括塑料基材，并在其上以此顺序设有包含优选地在离子辅助过程中形成的铌金属(Nb)的1-5nm厚的子层、以及减反射膜。也可以使用铌与其他元素(比如铝、铬和钽)的混合物。子层被描述为是塑料基材和减反射涂层之间的高粘附性、以及优异的耐热性和耐冲击性的原因。教导了SiO₂子层用于降低光学元件的热阻。