[发明专利]耐磨性得到改善的具有干涉涂层的光学制品有效
| 申请号： | 201980067837.9 | 申请日： | 2019-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN112867945B | 公开（公告）日： | 2023-06-16 |
| 发明（设计）人： | B·恩普林;N·迈特尔;S·基亚罗托 | 申请（专利权）人： | 依视路国际公司 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 刘娜;张振军 |
| 地址： | 法国沙*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 耐磨性 得到 改善 具有 干涉 涂层 光学 制品 | ||
1.一种光学制品，所述光学制品包括具有至少一个主面的基材，所述至少一个主面依次涂覆有：
-包含铬、硅和氧的层，
-厚度大于或等于100nm的单层子层，
-多层干涉涂层，所述多层干涉涂层包括折射率高于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或更小的至少一个低折射率层的堆叠体，其中：
比率：
大于或等于1.7，并且
其中，所述光学制品具有根据ASTM F735-81标准确定的大于或等于7的拜耳值。
2.根据权利要求1所述的光学制品，其中，所述子层具有大于或等于120nm的厚度。
3.根据权利要求2所述的光学制品，其中，所述子层具有大于或等于130nm的厚度。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的光学制品，其中，所述子层是基于SiO2的层。
5.根据权利要求1-3中任一项所述的光学制品，其中，所述子层与所述干涉涂层直接接触。
6.根据权利要求1-3中任一项所述的光学制品，其中，所述子层在小于-250MPa的压缩应力下处于压缩状态。
7.根据权利要求1-3中任一项所述的光学制品，其中，包含铬、硅和氧的所述层具有小于或等于10nm的厚度。
8.根据权利要求1-3中任一项所述的光学制品，其中，包含铬、硅和氧的所述层的折射率高于1.55。
9.根据权利要求1-3中任一项所述的光学制品，其中，包含铬、硅和氧的所述层与所述子层直接接触。
10.根据权利要求1-3中任一项所述的光学制品，其中，所述子层的沉积是在低于1.6×10-4mBar的压力下在真空室中进行的。
11.根据权利要求1-3中任一项所述的光学制品，其中，所述子层的沉积是在真空室中进行的，在所述沉积过程中不向所述真空室中供应补充气体。
12.根据权利要求1-3中任一项所述的光学制品，其中，所述干涉涂层是减反射涂层。
13.根据权利要求1-3中任一项所述的光学制品，其中，所述光学制品是眼科镜片。
14.一种制造根据前述权利要求中任一项所述的光学制品的方法，所述方法包括：
-提供光学制品，所述光学制品包括具有至少一个主面的基材，
-在所述基材的主表面上沉积包含铬、硅和氧的层，
-在包含铬、硅和氧的所述层上沉积具有外露表面且厚度大于或等于100nm的单层子层，
-将多层干涉涂层沉积在所述子层的所述外露表面上，所述多层干涉涂层包括折射率高于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或更小的至少一个低折射率层，由此获得有涂层的光学制品，其中，比率
大于或等于1.7，并且
其中，所述有涂层的光学制品具有根据ASTM F735-81标准确定的大于或等于7的拜耳值。
15.根据权利要求14所述的方法，其中，在沉积所述多层干涉涂层之前，使所述子层的所述外露表面经受离子轰击处理，并且其中，在真空室中进行所述子层的沉积，在所述沉积过程中不向所述真空室中供应补充气体。
16.根据权利要求14或15所述的方法，其中，在沉积所述多层干涉涂层的后续层之前，对所述多层干涉涂层的至少一个层的外露表面进行了离子轰击处理。
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