[发明专利]聚合物主链中包含杂原子的抗蚀剂下层膜形成用组合物在审
| 申请号： | 201980048330.9 | 申请日： | 2019-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN112437901A | 公开（公告）日： | 2021-03-02 |
| 发明（设计）人： | 上林哲;水落龙太;佐久间大辅;远藤雅久;西田登喜雄;远藤贵文;染谷安信;远藤勇树;岸冈高广 | 申请（专利权）人： | 日产化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;C08G59/22;G03F7/20;G03F7/26 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 马妮楠;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供具有特别高的干蚀刻速度的抗蚀剂下层膜、该抗蚀剂下层膜形成用组合物、抗蚀剂图案形成方法以及半导体装置的制造方法。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：环氧加成物形成用化合物与下述式(1)所示的化合物的环氧加成生成物；以及溶剂，[在式(1)中，A |
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| 搜索关键词： | 聚合 物主 包含 原子 抗蚀剂 下层 形成 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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