[发明专利]光电子器件及其制造过程在审

专利信息
申请号: 201980037764.9 申请日: 2019-06-03
公开(公告)号: CN112262485A 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 本杰明·布蒂农;皮埃尔·米勒;大卫·吉耶马尔 申请(专利权)人: 爱色乐居
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L27/30;H01L27/32
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 谭营营;胡彬
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种光电子器件,其包括衬底、覆盖衬底的光电子组件的阵列(70)、耦合到光电子组件的第一导电迹线、覆盖阵列的一部分的粘合层,以及与粘合层接触的涂层(44),该涂层包括外围,该器件还包括第二迹线(72),该第二迹线反射335nm至10.6μm范围内的波长的辐射,并且以与外围对齐的方式沿着给定方向在第一导电迹线与涂层之间延伸。
搜索关键词: 光电子 器件 及其 制造 过程
【主权项】:
暂无信息
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