[发明专利]用于EUV光刻的光学配置在审
| 申请号： | 201980020783.0 | 申请日： | 2019-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN111886547A | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | A.冈查尔 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明关于一种用于EUV光刻的光学配置，包括：至少一个具有主体(32)的部件(23)，该主体具有在该光学配置的操作期间暴露于活性氢(H |
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| 搜索关键词： | 用于 euv 光刻 光学 配置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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