[发明专利]被覆构件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201980014445.6 申请日: 2019-02-15
公开(公告)号: CN111771011B 公开(公告)日: 2022-07-05
发明(设计)人: 小関秀峰;进野大树 申请(专利权)人: 日立金属株式会社
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;B23B27/14;B29C33/38;C23C14/14
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 马爽;臧建明
地址: 日本东京港*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种被覆构件及其制造方法,被覆构件抑制因熔滴而引起的点腐蚀的产生或粒界腐蚀的产生,即便产生微小的点腐蚀或粒界腐蚀,也能够抑制发展至基材。一种被覆构件,在基材的表面具有硬质皮膜,所述硬质皮膜包括:A层,选自Cr或CrM的氮化物、碳氮化物、氧氮化物、碳氧氮化物(M为周期表的4族金属、5族金属、6族金属、Al、Si、B中的一种或两种以上);金属层,形成于较A层更靠外表面侧,且包含Cr、Ti或W;及B层,形成于较金属层更靠外表面侧,且选自Cr或CrM的氮化物、碳氮化物、氧氮化物、碳氧氮化物(M为周期表的4族金属、5族金属、6族金属、Al、Si、B中的一种或两种以上),所述金属层的外表面侧导入了应变。
搜索关键词: 被覆 构件 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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