[发明专利]被覆构件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201980014445.6 申请日: 2019-02-15
公开(公告)号: CN111771011B 公开(公告)日: 2022-07-05
发明(设计)人: 小関秀峰;进野大树 申请(专利权)人: 日立金属株式会社
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;B23B27/14;B29C33/38;C23C14/14
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 马爽;臧建明
地址: 日本东京港*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 被覆 构件 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种被覆构件,在基材的表面具有硬质皮膜,且所述被覆构件的特征在于,

所述硬质皮膜包括:

A层,选自Cr或CrM的氮化物、碳氮化物、氧氮化物、碳氧氮化物,其中所述CrM中的M为选自周期表的4族金属、5族金属、6族金属、Al、Si、B中的一种或两种以上;

金属层,形成于较所述A层更靠外表面侧,且包含Cr、Ti或W;及

B层,形成于较所述金属层更靠外表面侧,且选自Cr或CrM的氮化物、碳氮化物、氧氮化物、碳氧氮化物,其中所述CrM中的M为选自周期表的4族金属、5族金属、6族金属、Al、Si、B中的一种或两种以上,并且

所述金属层的外表面侧导入了应变。

2.根据权利要求1所述的被覆构件,其特征在于,包括第二金属层,所述第二金属层位于较所述B层更靠外表面侧,且包含Cr、Ti或W。

3.根据权利要求1或2所述的被覆构件,其特征在于,所述A层及B层的至少一者的厚度为4μm~20μm。

4.根据权利要求3所述的被覆构件,其特征在于,所述A层及B层的至少一者的厚度为6μm以上。

5.一种被覆构件的制造方法,所述被覆构件在基材的表面具有硬质皮膜,且所述制造方法的特征在于包括:

第一被覆工序,在基材上被覆选自Cr或CrM的氮化物、碳氮化物、氧氮化物、碳氧氮化物的A层,其中所述CrM中的M为选自周期表的4族金属、5族金属、6族金属、Al、Si、B中的一种或两种以上;

金属层被覆工序,在被覆所述A层后,被覆包含Cr、Ti或W的金属层;

金属层改质工序,在被覆所述金属层后,向所述金属层的表层导入应变;及

第二被覆工序,在所述金属层改质工序后,被覆选自Cr或CrM的氮化物、碳氮化物、氧氮化物、碳氧氮化物的B层,其中所述CrM中的M为选自周期表的4族金属、5族金属、6族金属、Al、Si、B中的一种或两种以上。

6.根据权利要求5所述的被覆构件的制造方法,其特征在于,所述金属层改质工序为包含Cr离子或Ti离子的金属离子轰击。

7.根据权利要求5或6所述的被覆构件的制造方法,其特征在于,在所述第一被覆工序与金属层被覆工序之间,进行对A层的表面进行研磨的研磨工序。

8.根据权利要求5或6所述的被覆构件的制造方法,其特征在于,包括第二金属层被覆工序,所述第二金属层被覆工序是在所述第二被覆工序后被覆包含Cr、Ti或W的第二金属层。

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