[发明专利]被覆构件及其制造方法有效
申请号: | 201980014445.6 | 申请日: | 2019-02-15 |
公开(公告)号: | CN111771011B | 公开(公告)日: | 2022-07-05 |
发明(设计)人: | 小関秀峰;进野大树 | 申请(专利权)人: | 日立金属株式会社 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;B23B27/14;B29C33/38;C23C14/14 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 马爽;臧建明 |
地址: | 日本东京港*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 被覆 构件 及其 制造 方法 | ||
1.一种被覆构件,在基材的表面具有硬质皮膜,且所述被覆构件的特征在于,
所述硬质皮膜包括:
A层,选自Cr或CrM的氮化物、碳氮化物、氧氮化物、碳氧氮化物,其中所述CrM中的M为选自周期表的4族金属、5族金属、6族金属、Al、Si、B中的一种或两种以上;
金属层,形成于较所述A层更靠外表面侧,且包含Cr、Ti或W;及
B层,形成于较所述金属层更靠外表面侧,且选自Cr或CrM的氮化物、碳氮化物、氧氮化物、碳氧氮化物,其中所述CrM中的M为选自周期表的4族金属、5族金属、6族金属、Al、Si、B中的一种或两种以上,并且
所述金属层的外表面侧导入了应变。
2.根据权利要求1所述的被覆构件,其特征在于,包括第二金属层,所述第二金属层位于较所述B层更靠外表面侧,且包含Cr、Ti或W。
3.根据权利要求1或2所述的被覆构件,其特征在于,所述A层及B层的至少一者的厚度为4μm~20μm。
4.根据权利要求3所述的被覆构件,其特征在于,所述A层及B层的至少一者的厚度为6μm以上。
5.一种被覆构件的制造方法,所述被覆构件在基材的表面具有硬质皮膜,且所述制造方法的特征在于包括:
第一被覆工序,在基材上被覆选自Cr或CrM的氮化物、碳氮化物、氧氮化物、碳氧氮化物的A层,其中所述CrM中的M为选自周期表的4族金属、5族金属、6族金属、Al、Si、B中的一种或两种以上;
金属层被覆工序,在被覆所述A层后,被覆包含Cr、Ti或W的金属层;
金属层改质工序,在被覆所述金属层后,向所述金属层的表层导入应变;及
第二被覆工序,在所述金属层改质工序后,被覆选自Cr或CrM的氮化物、碳氮化物、氧氮化物、碳氧氮化物的B层,其中所述CrM中的M为选自周期表的4族金属、5族金属、6族金属、Al、Si、B中的一种或两种以上。
6.根据权利要求5所述的被覆构件的制造方法,其特征在于,所述金属层改质工序为包含Cr离子或Ti离子的金属离子轰击。
7.根据权利要求5或6所述的被覆构件的制造方法,其特征在于,在所述第一被覆工序与金属层被覆工序之间,进行对A层的表面进行研磨的研磨工序。
8.根据权利要求5或6所述的被覆构件的制造方法,其特征在于,包括第二金属层被覆工序,所述第二金属层被覆工序是在所述第二被覆工序后被覆包含Cr、Ti或W的第二金属层。
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