[发明专利]溅射靶、颗粒膜以及垂直磁记录介质有效
| 申请号： | 201980003870.5 | 申请日： | 2019-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN111032906B | 公开（公告）日： | 2022-10-25 |
| 发明（设计）人： | 清水正义;増田爱美;岩渊靖幸;小庄孝志 | 申请（专利权）人： | JX金属株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/62 | 分类号： | G11B5/62 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种溅射靶，其含有0.05at％以上的Bi，金属氧化物的合计含量为10vol％～70vol％，剩余部分至少包含Ru。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 颗粒 以及 垂直 记录 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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