[实用新型]一种多晶硅还原炉及其视镜输氢孔结构有效
| 申请号： | 201922492274.8 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN211310863U | 公开（公告）日： | 2020-08-21 |
| 发明（设计）人： | 余涛;冉祎;李伟;杜炳胜;汪云清 | 申请（专利权）人： | 四川永祥多晶硅有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/03 | 分类号： | C01B33/03;C01B33/035 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 张雪娇 |
| 地址： | 614800 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种视镜输氢孔结构，包括缓冲腔，所述缓冲腔为半圆结构，且该半圆结构的开口朝向底盘，所述缓冲腔的腔壁上设置有用于连通炉筒内部和所述缓冲腔的输氢孔，所述缓冲腔上还设置有用于连通氢气源的进气口。本实用新型中的缓冲腔为上半圆结构，因此缓冲腔的底部并不存在凹槽结构，那么在对炉筒进行清洗的过程中，缓冲腔的底部就不会出现积水，那么也就避免了污染硅芯，确保了产品质量。另外，还可以将输氢孔设置为朝向视镜的中心轴线的倾斜孔，相较于垂直孔，倾斜布置的输氢孔能够避免在视镜的中心轴线处形成负压，从而避免了硅粉被吸附到视镜上。本实用新型还公开了一种多晶硅还原炉。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多晶 还原 及其 视镜输氢孔 结构 | ||
【主权项】：
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