[实用新型]一种多晶硅还原炉及其视镜输氢孔结构

说明书

本实用新型公开了一种视镜输氢孔结构，包括缓冲腔，所述缓冲腔为半圆结构，且该半圆结构的开口朝向底盘，所述缓冲腔的腔壁上设置有用于连通炉筒内部和所述缓冲腔的输氢孔，所述缓冲腔上还设置有用于连通氢气源的进气口。本实用新型中的缓冲腔为上半圆结构，因此缓冲腔的底部并不存在凹槽结构，那么在对炉筒进行清洗的过程中，缓冲腔的底部就不会出现积水，那么也就避免了污染硅芯，确保了产品质量。另外，还可以将输氢孔设置为朝向视镜的中心轴线的倾斜孔，相较于垂直孔，倾斜布置的输氢孔能够避免在视镜的中心轴线处形成负压，从而避免了硅粉被吸附到视镜上。本实用新型还公开了一种多晶硅还原炉。

技术领域

本实用新型涉及多晶硅生产领域，更具体地说，涉及一种多晶硅还原炉及其视镜输氢孔结构。

背景技术

多晶硅还原炉中的视镜设置在炉筒上，便于作业人员通过视镜观察炉筒内部的反应情况。通常情况下，围绕视镜设置有一圈输氢孔，通过输氢孔向炉筒内部吹氢气，以防止炉筒内的硅粉附着在镜片上。所述一圈输氢孔设置在缓冲腔的腔壁上，输氢孔用于连通缓冲腔和炉筒内部。缓冲腔上还设置有用于连通氢气源的进气口。缓冲腔为竖立的圆环状。视镜贯穿缓冲腔。

但是，由于缓冲腔的底部为凹槽状，在清洗炉筒的过程中，缓冲腔的底部容易出现积水，如果在生产的过程中积水通过输氢孔进入到炉筒内，那么积水会污染硅芯，从而影响产品质量。

因此，如何避免缓冲腔的底部积水，从而避免污染硅芯，确保产品质量，是本领域技术人员亟待解决的关键性问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种视镜输氢孔结构，该视镜输氢孔结构能够避免缓冲腔的底部积水，从而避免污染硅芯，确保产品质量。为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种视镜输氢孔结构，包括缓冲腔，所述缓冲腔为半圆结构，且该半圆结构的开口朝向底盘，所述缓冲腔的腔壁上设置有用于连通炉筒内部和所述缓冲腔的输氢孔，所述缓冲腔上还设置有用于连通氢气源的进气口。

优选地，所述输氢孔为沿着所述缓冲腔的半圆结构均匀分布的多个。

优选地，视镜贯穿所述缓冲腔，多个所述输氢孔围绕所述视镜分布。

优选地，所述视镜的上半部贯穿所述缓冲腔。

优选地，所述输氢孔为倾斜孔，且朝向所述视镜的中心轴线处倾斜。

优选地，所述缓冲腔和所述输氢孔与炉筒一体化铸造成型。

本实用新型还公开了一种多晶硅还原炉，包括视镜输氢孔结构，所述视镜输氢孔结构为上述任意一种视镜输氢孔结构。

从上述技术方案可以看出，本实用新型中的缓冲腔为上半圆结构，因此缓冲腔的底部并不存在凹槽结构，那么在对炉筒进行清洗的过程中，缓冲腔的底部就不会出现积水，那么也就避免了污染硅芯，确保了产品质量。另外，还可以将输氢孔设置为朝向视镜的中心轴线的倾斜孔，相较于垂直孔，倾斜布置的输氢孔能够避免在视镜的中心轴线处形成负压，从而避免了硅粉被吸附到视镜上。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的方案，下面将对实施例中描述所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型一具体实施例提供的视镜输氢孔结构的主视图；

图2为本实用新型一具体实施例提供的视镜输氢孔结构的侧视图；

图3为本实用新型一具体实施例提供的输氢孔的结构示意图。

其中，1为缓冲腔、2为输氢孔、3为视镜。

具体实施方式