[实用新型]一种掩膜板清洗机药液检测装置有效
申请号: | 201922339048.6 | 申请日: | 2019-12-24 |
公开(公告)号: | CN211207070U | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 张麒麟;卢玄龙 | 申请(专利权)人: | 福建华佳彩有限公司 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;G03F1/82 |
代理公司: | 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 | 代理人: | 徐剑兵;张忠波 |
地址: | 351100 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供一种掩膜板清洗机药液检测装置,包括清洗槽、第一电磁阀、透光容器、发光单元、光接收单元、处理单元和显示单元,清洗槽通过管路与第一电磁阀连通,第一电磁阀通过管路与透光容器连通,发光单元和光接收单元分别设置在透光容器的两侧,发光单元发出的光线经过透光容器后到达光接收单元,所述处理单元与第一电磁阀、光接收单元、显示单元连接。本方案通过光接收单元检测穿过透光容器内药液的光强度,可以准确地判断出药液有机物颗粒浓度,实现了药液有机物颗粒浓度的精确测量,利于准确判断药液更换时机,避免了目前经验性判断方法更换溶液的弊端。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 清洗 药液 检测 装置 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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