[实用新型]一种掩膜板清洗机药液检测装置有效
申请号: | 201922339048.6 | 申请日: | 2019-12-24 |
公开(公告)号: | CN211207070U | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 张麒麟;卢玄龙 | 申请(专利权)人: | 福建华佳彩有限公司 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;G03F1/82 |
代理公司: | 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 | 代理人: | 徐剑兵;张忠波 |
地址: | 351100 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 清洗 药液 检测 装置 | ||
本实用新型提供一种掩膜板清洗机药液检测装置,包括清洗槽、第一电磁阀、透光容器、发光单元、光接收单元、处理单元和显示单元,清洗槽通过管路与第一电磁阀连通,第一电磁阀通过管路与透光容器连通,发光单元和光接收单元分别设置在透光容器的两侧,发光单元发出的光线经过透光容器后到达光接收单元,所述处理单元与第一电磁阀、光接收单元、显示单元连接。本方案通过光接收单元检测穿过透光容器内药液的光强度,可以准确地判断出药液有机物颗粒浓度,实现了药液有机物颗粒浓度的精确测量,利于准确判断药液更换时机,避免了目前经验性判断方法更换溶液的弊端。
技术领域
本实用新型涉及清洗机药液检测领域,尤其涉及一种掩膜板清洗机药液检测装置。
背景技术
在当前OLED(OrganicLight-EmittingDiode,有机电致发光二极管)制程技术中,用于真空蒸镀的掩模板非常重要和关键,该部件的精度与质量将直接决定OLED产品的显示效果与品质。掩模板(Mask),特别是高精细金属掩模板(FinemetalMask),随着使用次数增加残留在上面的有机材料逐渐增多,会造成蒸镀区域精准度欠佳。在制程中,掩模板在循环使用前必须清除这些有机材料等杂质。目前的掩膜板清洗机一般使用溶解能力较强的如N-甲基吡咯烷酮等药液去除掩模板上的有机材料,但随着掩膜板清洗数量增多药液中的有机物颗粒增加致使药液浓度降低,导致其清洗能力下降,掩膜板的清洗效果不佳,因此需要更换药液以继续清洗,但目前操作人员并没有可参考的指标了解药液内杂质含量继而做出适合更换时间的判断,往往是根据药液的浑浊程度做出经验性判断,或者依据掩膜板清洗数量是否达到某一设定值,以上方式带来的问题是如果过早更换药液会浪费资源,制程中使用的药液价格非常昂贵,导致掩模板的清洗成本大大增加,如果过晚更换,则可能由于溶液内有机物浓度过大导致掩模板清洗效果差,影响OLED显示屏的显示效果与品质。
实用新型内容
为此,需要提供一种掩膜板清洗机药液检测装置,解决清洗机药液无法检测的问题。
为实现上述目的,发明人提供了一种掩膜板清洗机药液检测装置,包括清洗槽、第一电磁阀、透光容器、发光单元、光接收单元、处理单元和显示单元,清洗槽通过管路与第一电磁阀连通,第一电磁阀通过管路与透光容器连通,发光单元和光接收单元分别设置在透光容器的两侧,发光单元发出的光线经过透光容器后到达光接收单元,所述处理单元与第一电磁阀、光接收单元、显示单元连接。
进一步地,还包括储液槽和第二电磁阀,储液槽通过管路与第二电磁阀连通,第二电磁阀通过管路与透光容器连通,所述处理单元与第二电磁阀连接。
进一步地,还包括第一液位传感器和第二液位传感器,第一液位传感器和第二液位传感器分别设置在透光容器不同高度位置,第一液位传感器和第二液位传感器与所述处理单元连接。
进一步地,还包括第三电磁阀,透光容器通过管路与第三电磁阀连通,第三电磁阀通过管路与透光容器连通,所述处理单元与第三电磁阀连接。
进一步地,还包括报警单元,所述报警单元与所述处理单元连接。
进一步地,所述显示单元为数字显示单元或机械指针显示单元。
区别于现有技术,上述技术方案通过光接收单元检测穿过透光容器内药液的光强度,可以准确地判断出药液有机物颗粒浓度,实现了药液有机物颗粒浓度的精确测量,利于准确判断药液更换时机,避免了目前经验性判断方法更换溶液的弊端。
附图说明
图1具体实施方式所述的装置结构示意图。
附图标记说明:
1、清洗槽;
2、第一电磁阀;
3、透光容器;
4、发光单元;
5、光接收单元;
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备