[实用新型]一种用于晶片抛光机的废料收集机构有效
| 申请号： | 201922161847.9 | 申请日： | 2019-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN211465922U | 公开（公告）日： | 2020-09-11 |
| 发明（设计）人： | 潘芳琳 | 申请（专利权）人： | 浙江罗克光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B41/06;B24B55/06;B07B1/04 |
| 代理公司： | 嘉兴嘉科嘉创专利代理事务所(普通合伙) 33348 | 代理人： | 路忠琴 |
| 地址： | 314019 浙江省嘉*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于晶片抛光机的废料收集机构，属于晶片加工设备技术领域，旨在提供一种清理残屑方便、彻底的用于晶片抛光机的废料收集机构，包括机体，机体包括工作箱，工作箱内设有工装夹具，工作箱内的底部上开有导料槽，导料槽环绕工装夹具，导料槽呈倾斜状，导料槽的最底端开有排料孔，机体上设有与排料孔连通并与机体连接的排料管、与排料管连接的吸风机及与吸风机连接的收料箱，工作箱上设有用于工作箱密封的密封盖。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 晶片 抛光机 废料 收集 机构 | ||
【主权项】：
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