[实用新型]一种用于晶片抛光机的废料收集机构有效
申请号: | 201922161847.9 | 申请日: | 2019-12-06 |
公开(公告)号: | CN211465922U | 公开(公告)日: | 2020-09-11 |
发明(设计)人: | 潘芳琳 | 申请(专利权)人: | 浙江罗克光电科技股份有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B41/06;B24B55/06;B07B1/04 |
代理公司: | 嘉兴嘉科嘉创专利代理事务所(普通合伙) 33348 | 代理人: | 路忠琴 |
地址: | 314019 浙江省嘉*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 晶片 抛光机 废料 收集 机构 | ||
本实用新型公开了一种用于晶片抛光机的废料收集机构,属于晶片加工设备技术领域,旨在提供一种清理残屑方便、彻底的用于晶片抛光机的废料收集机构,包括机体,机体包括工作箱,工作箱内设有工装夹具,工作箱内的底部上开有导料槽,导料槽环绕工装夹具,导料槽呈倾斜状,导料槽的最底端开有排料孔,机体上设有与排料孔连通并与机体连接的排料管、与排料管连接的吸风机及与吸风机连接的收料箱,工作箱上设有用于工作箱密封的密封盖。
技术领域
本实用新型涉及一种晶片加工设备,更具体地说,它涉及一种用于晶片抛光机的废料收集机构。
背景技术
现有技术中的晶片抛光机,大多采用将晶片固定在一个固定盘上,晶片表面凸出在固定盘盘面外,用打磨布对晶片的表面进行打磨。晶片在抛光过程中,会产生大量的残屑,通常需要人工对废料进行清理,非常麻烦;而且人工对于残屑清理不够彻底,从而容易对晶片的抛光工序造成影响。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种清理残屑方便、彻底的用于晶片抛光机的废料收集机构。
为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:
一种用于晶片抛光机的废料收集机构,包括机体,机体包括工作箱,工作箱内设有工装夹具,工作箱内的底部上开有导料槽,导料槽环绕工装夹具,导料槽呈倾斜状,导料槽的最底端开有排料孔,机体上设有与排料孔连通并与机体连接的排料管、与排料管连接的吸风机及与吸风机连接的收料箱,工作箱上设有用于工作箱密封的密封盖,密封盖与工作箱活动连接。
进一步的,工作箱内设有导料斗,导料斗包括进料口和出料口,进料口的外缘与工作箱的内壁连接,出料口朝向导料槽的方向,工装夹具穿过出料口,导料斗上设有呈环状的过滤网,过滤网的外缘与导料斗的内壁抵触,工作夹具上设有与过滤网的内缘连接的导向环板,导向环板向导料槽的方向倾斜,过滤网与导料槽对应。
通过采用上述技术方案,本实用新型的有益效果为:晶片被抛光产生的残屑及废料掉落到过滤网环上,吸风机启动后,即可将细小的残屑吸入收料箱内,比较大的废料落在过滤网环上,便于工作人员清理,这样设置,对于残屑的清理更为方便、彻底。
附图说明
图1为本实用新型实施例的结构示意图。
图2为工作箱的剖视结构示意图。
具体实施方式
参照图1至图2对本实用新型实施例做进一步说明。
一种清理残屑方便、彻底的用于晶片抛光机的废料收集机构。
本实用新型的具体实施方案:包括机体1,机体1包括工作箱2,工作箱2内设有工装夹具3,工作箱2内的底部上开有导料槽4,导料槽4环绕工装夹具3,导料槽4呈倾斜状,导料槽4的最底端开有排料孔5,机体1上设有与排料孔5连通并与机体1连接的排料管6、与排料管6连接的吸风机7及与吸风机7连接的收料箱8,工作箱2上设有用于工作箱2密封的密封盖9,密封盖9与工作箱活动连接。
晶片固定于工装夹具3上进行抛光后产生大量残屑,残屑掉落至导料槽4上,对残屑进行清理时,用密封盖9将工作箱2盖住、密封,之后吸风机7开启,工作腔内的残屑经排料孔5被吸入排料管6内,最后被排入收料箱8内,从而完成残屑的收集;呈倾斜状的导料槽4,使得落在导料槽4内的残屑会向导料槽4的最底端滑动,进而使得残屑排出更为方便、彻底;排料孔5置于导料槽4最底端,从而使得吸风机7对残屑吸附、排出时,残屑可以更为方便的被排出;密封盖9的设置,使得工作箱2内经吸风机7吸动时,工作箱2内的压强较外部小,故残屑更为容易被排出;这样设置,使得残屑的清理更为方便、彻底。
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