[实用新型]一种磁控溅射反应设备的叠层膜镀膜靶材挡板

摘要

本实用新型公开了一种磁控溅射反应设备的叠层膜镀膜靶材挡板，包括溅射靶、挡板、支撑组件及转动机构，所述溅射靶包括第一靶材及第二靶材，所述挡板通过支撑组件可转动的固定在溅射靶上方，所述挡板左右两侧连接有转动机构，所述转动机构通过微型电机带动挡板转动，所述挡板用于转动遮挡第一靶材或第二靶材。本实用新型可以通过挡板的转动，精确控制叠层膜中单层膜的厚度，得到质量较高的均匀叠层膜。本实用新型减少了叠层膜镀膜过程中实验者时间的浪费以及失误的产生，延长了机构的使用寿命。并且，本实用新型避免了双靶溅射需要偏转两个靶的角度，并对溅射最小靶与基距有限制的问题，能在任意靶基距下垂直溅射均匀薄膜。