[实用新型]一种磁控溅射反应设备的叠层膜镀膜靶材挡板

权利要求书

1.一种磁控溅射反应设备的叠层膜镀膜靶材挡板，用于包括第一靶材及第二靶材的合成靶材，其特征在于，包括溅射靶、挡板、支撑组件及转动机构，所述挡板通过支撑组件可转动的固定在溅射靶上方，所述挡板左右两侧连接有转动机构，所述转动机构通过微型电机带动挡板转动，所述挡板用于转动遮挡第一靶材或第二靶材。

2.如权利要求1所述的一种磁控溅射反应设备的叠层膜镀膜靶材挡板，其特征在于，所述支撑组件包括挡板架及挡板架固定支脚，所述挡板架中空成环状，所述挡板架前后通过挡板架固定支脚固定在溅射靶上，所述挡板转动连接在挡板架的中空处。

3.如权利要求1或2所述的一种磁控溅射反应设备的叠层膜镀膜靶材挡板，其特征在于，所述转动机构包括齿轮及连接杆，所述挡板设有与齿轮相啮合的挡板齿，所述齿轮啮合于挡板的两端，所述连接杆一端与齿轮连接，另一端与微型电机连接。

4.如权利要求2所述的一种磁控溅射反应设备的叠层膜镀膜靶材挡板，其特征在于，所述挡板架内设有挡板轨迹槽及挡板架限位圈，所述挡板架限位圈凸起设于挡板架内并位于挡板轨迹槽处，所述挡板上设有与限位圈相适配的限位槽。

5.如权利要求4所述的一种磁控溅射反应设备的叠层膜镀膜靶材挡板，其特征在于，所述挡板架两端设有齿轮安装槽，所述齿轮安装槽与挡板轨迹槽连通。

6.如权利要求1所述的一种磁控溅射反应设备的叠层膜镀膜靶材挡板，其特征在于，所述挡板为半圆形挡板，所述挡板外周设有挡板齿。

7.如权利要求1所述的一种磁控溅射反应设备的叠层膜镀膜靶材挡板，其特征在于，所述挡板左右两侧的转动机构交替带动挡板转动。