[实用新型]一种半导体高洁净度涂层再生设备有效
| 申请号： | 201922106137.6 | 申请日： | 2019-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN212633240U | 公开（公告）日： | 2021-03-02 |
| 发明（设计）人： | 辛长林;阚总峰;刘洪刚;赵峰 | 申请（专利权）人： | 安徽高芯众科半导体有限公司 |
| 主分类号： | B05C5/02 | 分类号： | B05C5/02;B05C13/02;B05C11/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 247000 安徽省池州市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种半导体高洁净度涂层再生设备，涉及到半导体技术领域。包括支撑板，所述支撑板的中心设置有圆形通孔，所述圆形通孔内部圆形支撑板，所述圆形支撑板的顶端设置有电机，所述电机的外侧且位于所述圆形支撑板的顶端设置有支撑钢板，所述电机的输出轴穿过所述支撑钢板的中心。有益效果：利用电机带动工作台对半导体进行涂布操作，使半导体的涂布更加均匀，增强了半导体涂布再生的可能性，利用减震装置，缓冲了来自涂层设备外部的震动，使设备的涂层更加均匀，利用水平装置对设备进行水平调整，防止在涂层的过程中因设备发生偏斜而使设备涂布不均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 洁净 涂层 再生 设备 | ||
【主权项】：
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