[实用新型]一种半导体高洁净度涂层再生设备有效
| 申请号： | 201922106137.6 | 申请日： | 2019-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN212633240U | 公开（公告）日： | 2021-03-02 |
| 发明（设计）人： | 辛长林;阚总峰;刘洪刚;赵峰 | 申请（专利权）人： | 安徽高芯众科半导体有限公司 |
| 主分类号： | B05C5/02 | 分类号： | B05C5/02;B05C13/02;B05C11/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 247000 安徽省池州市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 洁净 涂层 再生 设备 | ||
1.一种半导体高洁净度涂层再生设备，包括：支撑板(1)，其特征在于，所述支撑板(1)的中心设置有圆形通孔(125)，所述圆形通孔内部圆形支撑板(119)，所述圆形支撑板(119)的顶端设置有电机(113)，所述电机(113)的外侧且位于所述圆形支撑板(119)的顶端设置有支撑钢板(118)，所述电机的输出轴穿过所述支撑钢板(118)的中心，所述电机(113)的输出轴顶端设置有圆形空腔(117)，所述圆形空腔(117)的顶端设置有圆片台(116)，所述圆片台(116)的顶端表面设置有圆形小孔(115)，所述圆形空腔(117)底端一侧设置有抽气泵(114)，所述抽气泵(114)的抽气管穿过所述圆形空腔(117)的底端钢板并延伸至所述圆形空腔(117)的内部，所述圆形支撑板(119)的底端设置有支撑柱(120)，所述支撑柱(120)的底端设置有支撑圆板(126)，所述支撑圆板(126)的顶端中心设置有水平气泡(112)，所述支撑圆板(126)的底端分别设置有调节旋钮一(121)、调节旋钮二(122)、调节旋钮三(111)，所述调节旋钮一(121)、调节旋钮二(122)、调节旋钮三(111)的底端套设有螺杆一(123)、螺杆二(124)、螺杆三(110)。
2.根据权利要求1所述的一种半导体高洁净度涂层再生设备，其特征在于，所述支撑圆板(126)的底端设置有减震弹簧(109)，所述减震弹簧(109)的底端设置有支撑方板(127)。
3.根据权利要求2所述的一种半导体高洁净度涂层再生设备，其特征在于，所述支撑方板(127)的底端设置有中承板(107)，所述支撑板(1)的底端四角设置有支撑腿(108)。
4.根据权利要求1所述的一种半导体高洁净度涂层再生设备，其特征在于，所述支撑板(1)的顶端侧面设置有竖直钢板(106)，所述竖直钢板(106)的顶端设置有横撑板(102)，所述横撑板(102)的顶端设置有出气孔(104)所述出气孔(104)的顶端设置有电机二(103)，所述横撑板(102)的底端设置有除尘斗(105)，所述除尘斗(105)的内部设置有风扇(101)，所述风扇(101)与所述电机二(103)的输出轴连接。
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