[实用新型]化学气相沉积系统有效

专利信息
申请号: 201922070872.6 申请日: 2019-11-26
公开(公告)号: CN211522317U 公开(公告)日: 2020-09-18
发明(设计)人: 钟瑞伦;吴俊鹏 申请(专利权)人: 吴俊鹏;陈纪宇
主分类号: C23C16/513 分类号: C23C16/513;C23C16/455;C23C16/458
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 董科
地址: 中国台湾新竹市北*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种化学气相沉积系统包括承载台、喷洒头、及网筛。承载台用以承载晶圆;喷洒头具有多个喷孔且连接等离子体产生部;网筛设置于喷洒头与承载台之间,并相对于喷洒头的喷孔。其中,由射频电源提供射频电压,而于喷洒头与承载台之间产生电场,使得等离子体产生部产生等离子体,由喷孔喷洒出等离子体,且于喷洒头与承载台之间的电场是由网筛所隔离,采用可隔离电场的网筛,电场不会全部直接经过晶圆,仅有低等离子体碰触晶圆表面,以对晶圆的等离子体轰击,避免晶圆的外延晶格表面遭受破坏。
搜索关键词: 化学 沉积 系统
【主权项】:
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