[实用新型]化学气相沉积系统

权利要求书

1.一种化学气相沉积系统，其特征在于，包括：

承载台，用以承载晶圆；

喷洒头，具有多个喷孔，且连接等离子体产生部，所述等离子体产生部连接射频电源；以及

网筛，设置于所述喷洒头与所述承载台之间，并相对于所述喷洒头的所述喷孔；

其中，所述射频电源提供射频电压，而于所述喷洒头与所述承载台之间产生电场，使得所述等离子体产生部产生等离子体，由所述喷孔喷洒出所述等离子体，且于所述喷洒头与所述承载台之间的所述电场是由所述网筛所隔离。

2.如权利要求1所述的化学气相沉积系统，其特征在于，所述等离子体对所述晶圆产生的轰击降低80％～99％。

3.如权利要求1所述的化学气相沉积系统，其特征在于，所述网筛设置于所述晶圆上方的距离为10mm～100mm。

4.如权利要求1所述的化学气相沉积系统，其特征在于，所述网筛设置于所述喷洒头下方的距离为5mm～10mm。

5.如权利要求1所述的化学气相沉积系统，其特征在于，所述网筛为金属。

6.如权利要求1或5所述的化学气相沉积系统，其特征在于，所述网筛具有多个筛孔，所述筛孔的孔径为3mm～10mm。

7.如权利要求6所述的化学气相沉积系统，其特征在于，所述网筛的每一所述筛孔之间的间距为10mm～30mm。