[实用新型]一种用于制备二维薄膜材料的载具有效
| 申请号： | 201921931227.2 | 申请日： | 2019-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN211689231U | 公开（公告）日： | 2020-10-16 |
| 发明（设计）人： | 刘忠范;彭海琳;蔡阿利;李杨立志;孙禄钊;王悦晨;刘海洋;陈步航 | 申请（专利权）人： | 北京石墨烯研究院;北京大学 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 于宝庆;崔香丹 |
| 地址： | 100095 北京市海淀区苏家*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请涉及用于制备二维薄膜材料的载具。该用于制备二维薄膜材料的载具用于放置于CVD设备或真空高温设备内，包括：底托，一个或多个生长板，用于承载生长衬底，所述一个或多个生长板设置在底托上。本申请的载具能够适用于多种生产设备，使用过程简单，生产效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 制备 二维 薄膜 材料 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
