[实用新型]一种用于制备二维薄膜材料的载具有效
| 申请号： | 201921931227.2 | 申请日： | 2019-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN211689231U | 公开（公告）日： | 2020-10-16 |
| 发明（设计）人： | 刘忠范;彭海琳;蔡阿利;李杨立志;孙禄钊;王悦晨;刘海洋;陈步航 | 申请（专利权）人： | 北京石墨烯研究院;北京大学 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 于宝庆;崔香丹 |
| 地址： | 100095 北京市海淀区苏家*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 制备 二维 薄膜 材料 | ||
1.一种用于制备二维薄膜材料的载具，用于放置于CVD设备或真空高温设备内，其特征在于，包括：
底托，
一个或多个生长板，用于承载生长衬底，所述一个或多个生长板设置在底托上；
所述生长板上下方设有相互配合的限位结构，使得多个所述生长板可层叠地放置在所述底托上时，相邻两个所述生长板之间用所述限位结构间隔开；
所述生长板为一个或多个，每一所述生长板为平板结构，所述生长板的上表面为具有曲率的弧面结构。
2.根据权利要求1所述的载具，其特征在于，所述曲率半径范围为1mm-60mm。
3.根据权利要求1-2任一项所述的载具，其特征在于，所述底托的上表面为平面或者具有尺寸梯度的凹槽。
4.根据权利要求1-2任一项所述的载具，其特征在于，所述底托为矩形，在直角处有倒角，矩形两端有方便进出样品的通槽。
5.一种用于制备二维薄膜材料的载具，用于放置于CVD设备或真空高温设备内，其特征在于，包括：
底托，
一个或多个生长板，用于承载生长衬底，所述一个或多个生长板设置在底托上；
所述生长板上下方设有相互配合的限位结构，使得多个所述生长板可层叠地放置在所述底托上时，相邻两个所述生长板之间用所述限位结构间隔开；
所述生长板为弧形板，所述底托呈中心镂空结构，所述生长板架设在所述底托的中心镂空结构中。
6.根据权利要求5所述的载具，其特征在于，所述弧形板的弧形半径为10mm-300mm。
7.根据权利要求5-6任一项所述的载具，其特征在于，所述底托为矩形，在直角处有倒角，矩形两端有方便进出样品的通槽。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
