[实用新型]一种激光错误注入设备有效
| 申请号： | 201921908748.6 | 申请日： | 2019-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN211741504U | 公开（公告）日： | 2020-10-23 |
| 发明（设计）人： | 高国栋 | 申请（专利权）人： | 深圳市纽创信安科技开发有限公司 |
| 主分类号： | G01R31/311 | 分类号： | G01R31/311;G01R31/265 |
| 代理公司： | 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 | 代理人： | 胡佳炜;彭愿洁 |
| 地址： | 518057 广东省深圳市南山区粤海街道*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型实施例公开了一种激光错误注入设备，用于对芯片进行激光错误注入，包括：激光源，用于发射激光；变焦耦合镜，用于调节激光在被测芯片上所形成光斑的尺寸；显微镜，其光路被设置为指向被测芯片，包括光路耦合镜、聚焦镜、成像镜、相机或目镜；设备被配置为：激光源发射的激光经变焦耦合镜后射入显微镜光路，在被测芯片上形成光斑，调节变焦耦合镜，以调节激光在被测芯片上所形成光斑的尺寸。通过实施本实用新型实施例，可较快的确定被测芯片上适合进行激光错误注入的准确位置，扫描效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 错误 注入 设备 | ||
【主权项】：
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