[实用新型]一种激光错误注入设备

权利要求书

1.一种激光错误注入设备，用于对芯片进行激光错误注入，其特征在于，包括：

激光源，用于发射激光；

变焦耦合镜，用于调节激光在被测芯片上所形成光斑的尺寸；

显微镜，其光路被设置为指向被测芯片，包括光路耦合镜、聚焦镜、成像镜、以及相机或目镜；

所述设备被配置为：所述激光源发射的激光经变焦耦合镜后射入显微镜光路，在被测芯片上形成光斑。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述变焦耦合镜，包括至少两个镜片，通过调整所述变焦耦合镜的不同镜片的间距来调节焦距，从而改变输出光束发散角，以改变光斑大小。

3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，还包括调整机构，用于调整所述不同镜片的间距。

4.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述调整机构为手动调整机构。

5.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述调整机构为电动调整机构。

6.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述激光源发射的激光经变焦耦合镜后射入显微镜光路，在被测芯片上形成光斑，具体为：激光经所述变焦耦合镜射出，经显微镜光路中的光路耦合镜和聚焦镜后，照射在所述被测芯片上形成光斑。

7.根据权利要求6所述的设备，其特征在于，所述光路耦合镜包括两个90°光路耦合镜。

8.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，还包括样品固定台，用于固定被测芯片。

9.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，还包括传动装置，用于控制光斑在被测芯片上采用不同的步长移动。

10.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，还包括遮光箱，减震平台及中控单元。