[实用新型]一种激光错误注入设备

说明书

本实用新型实施例公开了一种激光错误注入设备，用于对芯片进行激光错误注入，包括：激光源，用于发射激光；变焦耦合镜，用于调节激光在被测芯片上所形成光斑的尺寸；显微镜，其光路被设置为指向被测芯片，包括光路耦合镜、聚焦镜、成像镜、相机或目镜；设备被配置为：激光源发射的激光经变焦耦合镜后射入显微镜光路，在被测芯片上形成光斑，调节变焦耦合镜，以调节激光在被测芯片上所形成光斑的尺寸。通过实施本实用新型实施例，可较快的确定被测芯片上适合进行激光错误注入的准确位置，扫描效率高。

技术领域

本实用新型涉及芯片安全检测领域，尤其涉及一种激光错误注入设备。

背景技术

在芯片检测领域，激光错误注入设备是常用设备。芯片的核心工作物质为硅，基本工作原理是通过各种手段控制硅中的载流子浓度。当强光照射到硅上时，会有光电效应产生，改变硅中的载流子浓度。光的本质是电磁波，当光足够强时其电磁场也会影响硅中的电场，改变电场的效果。因此，用激光在合适的位置、合适的时间照射芯片，可以改变芯片的输出结果，这就是激光错误注入的基本思路。

目前业内常用的激光错误注入设备都是固定光路设计，激光器输出的光束经整形、聚焦后照射到芯片上，形成极小的光斑，在光斑面积内的晶体管会产生工作错误。但是很多晶体管的错误并不会引起整个芯片的工作错误，或着引起的错误不是我们需要的，这就要求找出需要导致芯片工作出错的晶体管。实际应用中，芯片的版图信息一般为未知，需要对整个芯片进行逐点扫描来寻找目标晶体管。传统的激光错误注入以固定大小的光斑和步长扫描芯片，扫描效率低下。因此，如何节约扫描时间，提升扫描效率，是本领域亟待解决的问题。

实用新型内容

本实用新型实施例提供一种激光错误注入设备，可提高扫描效率，节约确定错误注入精确位置的时间。

本实用新型实施例提供的一种激光错误注入设备，用于对芯片进行激光错误注入，包括：激光源，用于发射激光；变焦耦合镜，用于调节激光在被测芯片上所形成光斑的尺寸；显微镜，其光路被设置为指向被测芯片，包括光路耦合镜、聚焦镜、成像镜、以及相机或目镜；所述设备被配置为：所述激光源发射的激光经变焦耦合镜后射入显微镜光路，在被测芯片上形成光斑。

可选的，所述变焦耦合镜，包括至少两个镜片，通过调整所述变焦耦合镜的不同镜片的间距来调节焦距，从而改变输出光束发散角，以改变光斑大小。

可选的，设备还包括调整机构，用于调整所述不同镜片的间距。

可选的，所述调整机构为手动调整机构。

可选的，所述调整机构为电动调整机构。

可选的，所述激光源发射的激光经变焦耦合镜后射入显微镜光路，在被测芯片上形成光斑，具体为：激光经所述变焦耦合镜射出，经显微镜光路中的光路耦合镜和聚焦镜后，照射在所述被测芯片上形成光斑。

可选的，所述光路耦合镜包括两个90°光路耦合镜。

可选的，设备还包括样品固定台，用于固定被测芯片。

可选的，设备还包括传动装置，用于控制光斑在被测芯片上采用不同的步长移动。

可选的，设备还包括遮光箱，减震平台及中控单元。

本实用新型实施例，能够通过变焦耦合镜调节激光在被测芯片上所形成光斑的尺寸，灵活控制光斑的尺寸，能够支持先以较大光斑和较大步长扫描被测芯片来寻找被测芯片上适合进行激光错误注入的大致位置作为选定区域；再以较小光斑和较小步长在选定区域中移动光斑，来确定被测芯片上适合进行激光错误注入的准确位置。通过本实用新型实施例，能够节约扫描时间，有效提升扫描效率。

附图说明