[实用新型]一种降低硅片碎片的上料吸片装置

摘要

本实用新型涉及上料吸片装置技术领域，且公开了一种降低硅片碎片的上料吸片装置，包括支架，所述支架的底部固定安装有底板，所述底板上固定安装有托盘，所述托盘的一侧固定安装有边框，所述边框固定安装在两个传送装置的中部，所述传送装置上活动放置有硅片，所述支架的顶部固定安装有顶板，所述顶板的底部固定安装有机械臂。本实用新型通过将以往的四点吸盘改为整体吸盘，加大吸附力度，改进了以往吸盘的吸力不均衡，避免吸盘因吸附力不均衡造成碎片现象，且对风口进行改进，将以往技术方案中的一孔式吹口改为风刀结构，能够将层叠的硅片吹动时，每片硅片分开，使吸盘只吸到一块硅片，操作效果大大提高。