[实用新型]一种降低硅片碎片的上料吸片装置有效
申请号: | 201921675379.0 | 申请日: | 2019-10-09 |
公开(公告)号: | CN210272301U | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
发明(设计)人: | 李伟;戴磊;王波波;吴斌华;夏康;蓝希旺 | 申请(专利权)人: | 中赣新能源股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 温州名创知识产权代理有限公司 33258 | 代理人: | 程嘉炜 |
地址: | 335000 江*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 降低 硅片 碎片 上料吸片 装置 | ||
本实用新型涉及上料吸片装置技术领域,且公开了一种降低硅片碎片的上料吸片装置,包括支架,所述支架的底部固定安装有底板,所述底板上固定安装有托盘,所述托盘的一侧固定安装有边框,所述边框固定安装在两个传送装置的中部,所述传送装置上活动放置有硅片,所述支架的顶部固定安装有顶板,所述顶板的底部固定安装有机械臂。本实用新型通过将以往的四点吸盘改为整体吸盘,加大吸附力度,改进了以往吸盘的吸力不均衡,避免吸盘因吸附力不均衡造成碎片现象,且对风口进行改进,将以往技术方案中的一孔式吹口改为风刀结构,能够将层叠的硅片吹动时,每片硅片分开,使吸盘只吸到一块硅片,操作效果大大提高。
技术领域
本实用新型涉及上料吸片装置技术领域,具体为一种降低硅片碎片的上料吸片装置。
背景技术
硅片进行线切割,需要通过托盘和上下料装置进行上下料,通常一次性将多片硅片叠放在托盘中,并用在移动支架上设置吸盘和风口进行上下料。
但现有的移动支架上设置的是四个吸口点,吸力不均衡,由于硅片很薄,硅片之间很容易吸附,上料吸盘手从托盘中吸附硅片时很容易一次吸附多片硅片,不仅造成硅片破碎,将硅片吹起的风口结构为一孔式吹口,吹起不均匀,在吸盘吸硅片时,容易吸附到几块,下端硅片在传送过程中掉下,容易造成碎片现象,这种结构的风刀其出风集中吹向硅片的某一部位,在风量较大时,由于风力集中于硅片的某一部位,该部位受力较大,容易破碎,另外,风刀一般位于装有硅片的托盘的角落里,风沿着托盘的对角线吹,使得硅片的受力更加不均衡。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种降低硅片碎片的上料吸片装置,具备吸盘一次只吸到一块硅片,吸盘吸附力大,降低硅片碎片的优点,解决了上述背景技术中提到的问题。
本实用新型提供如下技术方案:一种降低硅片碎片的上料吸片装置,包括支架,所述支架的底部固定安装有底板,所述底板上固定安装有托盘,所述托盘的一侧固定安装有边框,所述边框固定安装在两个传送装置的中部,所述传送装置上活动放置有硅片,所述支架的顶部固定安装有顶板,所述顶板的底部固定安装有机械臂,所述机械臂的底部固定安装有连接杆,所述连接杆的底端固定安装在上支撑板上,所述上支撑板与下支撑板由固定杆固定连接,所述下支撑板和固定杆的中部固定安装有吸盘,所述吸盘的顶部固定安装有抽气口,所述抽气口的一端固定安装有抽气管,所述下支撑板的两侧固定安装有固定螺丝,所述固定螺丝的一端固定安装在连接板上,所述连接板的两端固定安装有吹片头,所述吹片头的一端固定安装有旋紧螺丝,所述旋紧螺丝固定安装有进风口,所述进风口的顶部固定安装有进风管,所述吹片头的另一端设有风口,所述风口的内部固定安装有扇片,所述吹片头的一侧固定安装有旋钮。
精选的,所述吸盘为整体吸盘。
精选的,所述扇片的倾斜角度可调,所述扇片固定安装在风口的内部,所述风口为风刀结构。
精选的,所述下支撑板的数量为三个,且每两个下支撑板间的距离值与两个托盘间的距离值一致。
精选的,所述连接板的数量为两个,所述连接板对称安装在下支撑板的两端中部,所述连接板上均固定安装有两个吹片头,两个所述吹片头对称的安装在连接板的两端。
与现有技术对比,本实用新型具备以下有益效果:
1、本实用新型通过将以往的四点吸盘改为整体吸盘,加大吸附力度,改进了以往吸盘的吸力不均衡,避免吸盘因吸附力不均衡造成碎片现象,且对风口进行改进,将以往技术方案中的一孔式吹口改为风刀结构,能够将层叠的硅片吹动时,每片硅片分开,使吸盘只吸到一块硅片,操作效果大大提高。
2、本实用新型通过在风口的内部增加可调节的扇片,并由旋钮进行外部调控,便于在不同使用情况时对风口的出风角度进行调节,使装置具有更好的适应性。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造