[实用新型]一种卧式多层磁控镀膜复合CVD设备

摘要

本实用新型公开一种卧式多层磁控镀膜复合CVD设备，涉及卷对卷CVD薄膜生长设备领域。该CVD设备包括设备框架，设备框架的顶部设有放卷机构、结构阀三、结构阀二、结构阀一、收卷机构、第一射频腔体、第二射频腔体、温区一、温区二；工作时采用收卷轴与放卷轴联动，经过第一射频腔体与第二射频腔体的磁控溅射，借助射频控制仪先将靶材激发溅射到基材上形成一层金属薄膜，再经两温区沉积形成由原料气体制得的纳米薄膜，可在基材上连续覆膜，得到金属薄膜夹纳米薄膜形式的复合薄膜，该CVD设备可以连续、快速、高效地制备大面积、高质量金属薄膜夹纳米薄膜形式的复合薄膜。