[实用新型]一种用于半导体加工的均氧钝化炉

摘要

本实用新型公开了一种用于半导体加工的均氧钝化炉，包括主箱体、均氧盒、固定装置，所述主箱体前面安装有前箱门，所述前箱门前面安装有控制板，所述控制板上面安装有显示屏，所述显示屏下方设置有数字键，所述显示屏一侧设置有报警灯，所述报警灯下方设置有扬声器，所述控制板后面安装有单片机，所述控制板一侧设置有门把手，所述前箱门后面圆周粘贴有密封条。本实用新型所述的一种用于半导体加工的均氧钝化炉，通过均氧盒的设置，增加钝化气体进入主箱体时的均匀性，通过气泵和均氧盒的设置，使气体均匀循环并排出，增加主箱体内气体均匀性，通过固定架上贯通孔的设置，保证了气体穿过固定架钝化半导体，保证了钝化效果。