[实用新型]一种用于半导体加工的均氧钝化炉有效
申请号: | 201921164968.2 | 申请日: | 2019-07-24 |
公开(公告)号: | CN210296309U | 公开(公告)日: | 2020-04-10 |
发明(设计)人: | 周鹤 | 申请(专利权)人: | 苏州冠博控制科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 合肥市科融知识产权代理事务所(普通合伙) 34126 | 代理人: | 晋圣智 |
地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 半导体 加工 钝化 | ||
1.一种用于半导体加工的均氧钝化炉,包括主箱体(1)、均氧盒(17)、固定装置(19),其特征在于:所述主箱体(1)前面安装有前箱门(6),所述前箱门(6)前面安装有控制板(7),所述控制板(7)上面安装有显示屏(10),所述显示屏(10)下方设置有数字键(9),所述显示屏(10)一侧设置有报警灯(12),所述报警灯(12)下方设置有扬声器(11),所述控制板(7)后面安装有单片机(8),所述控制板(7)一侧设置有门把手(13),所述前箱门(6)后面圆周粘贴有密封条(14),所述主箱体(1)顶部安装有气泵(2),所述气泵(2)两侧安装有输气管(3),所述主箱体(1)一侧安装有进气管(4),所述进气管(4)上面安装有电控气阀(5),所述主箱体(1)内顶壁上安装有电热棒(18),所述主箱体(1)内侧壁上安装有所述均氧盒(17),所述均氧盒(17)一侧设置有连接套(15),所述均氧盒(17)远离连接套(15)一侧设置有出气孔(20),所述均氧盒(17)下方设置有温度传感器(16),所述均氧盒(17)一侧设置有所述固定装置(19),所述固定装置(19)包括固定架(21),所述固定架(21)顶部设置有限位槽(22),所述固定架(21)两侧设置有贯通孔(23),所述单片机(8)分别与所述显示屏(10)、所述数字键(9)、所述报警灯(12)、所述扬声器(11)、所述气泵(2)、所述温度传感器(16)、所述电控气阀(5)和所述电热棒(18)电连接。
2.根据权利要求1所述的一种用于半导体加工的均氧钝化炉,其特征在于:所述前箱门(6)和所述主箱体(1)铰链连接,所述控制板(7)和所述前箱门(6)螺栓连接。
3.根据权利要求1所述的一种用于半导体加工的均氧钝化炉,其特征在于:所述报警灯(12)和所述扬声器(11)分别与所述控制板(7)卡扣连接。
4.根据权利要求1所述的一种用于半导体加工的均氧钝化炉,其特征在于:所述气泵(2)和所述主箱体(1)螺栓连接,所述输气管(3)和所述气泵(2)卡箍连接。
5.根据权利要求1所述的一种用于半导体加工的均氧钝化炉,其特征在于:所述输气管(3)和所述进气管(4)分别与所述连接套(15)插拔连接。
6.根据权利要求1所述的一种用于半导体加工的均氧钝化炉,其特征在于:所述电热棒(18)和所述主箱体(1)卡扣连接,所述温度传感器(16)和所述主箱体(1)螺栓连接。
7.根据权利要求1所述的一种用于半导体加工的均氧钝化炉,其特征在于:所述进气管(4)和所述输气管(3)分别与所述主箱体(1)焊接在一起。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造