[实用新型]一种吸盘有效
| 申请号： | 201921142030.0 | 申请日： | 2019-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN211238201U | 公开（公告）日： | 2020-08-11 |
| 发明（设计）人： | 刘群;庞爱锁;林佳继;朱太荣;林依婷 | 申请（专利权）人： | 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683;H01L31/18 |
| 代理公司： | 杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙) 33283 | 代理人： | 董世博 |
| 地址： | 518118 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种吸盘，包括吸盘主体，吸盘主体包括安装部位和吸附部位，安装部位用于吸盘主体的安装，吸附部位用于吸附片状原料；安装部位上设有卡槽和/或安装孔，吸附部位上设有气槽和气孔，气槽和气孔连通；本实用新型的有益效果是：本实用新型采用耐高温材料制作吸盘，适用于高温条件；新颖的吸盘结构设计配合多气槽的同心分布，可以增大吸盘与片状材料之间的吸力，使送料时片状材料很难脱落；插片部位的设置让吸盘很容易的插入到摆放在一起的片状元件之间，大大方便了送料操作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 吸盘 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
