[实用新型]一种吸盘有效
| 申请号: | 201921142030.0 | 申请日: | 2019-07-19 |
| 公开(公告)号: | CN211238201U | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
| 发明(设计)人: | 刘群;庞爱锁;林佳继;朱太荣;林依婷 | 申请(专利权)人: | 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L31/18 |
| 代理公司: | 杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙) 33283 | 代理人: | 董世博 |
| 地址: | 518118 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 吸盘 | ||
1.一种吸盘,包括吸盘主体,其特征在于,吸盘主体包括安装部位和吸附部位,安装部位用于吸盘主体的安装,吸附部位用于吸附片状原料,吸盘主体采用耐高温材料制成,耐高温材料包括陶瓷、碳化硅、氧化铝、氧化锆、耐高温非金属氧化物的一种。
2.根据权利要求1所述的一种吸盘,其特征在于,安装部位上设有卡槽和/或安装孔,吸附部位上设有气槽和气孔,气槽和气孔连通。
3.根据权利要求1所述的一种吸盘,其特征在于,吸附部位外端设有插片部位。
4.根据权利要求1所述的一种吸盘,其特征在于,安装部位的厚度比吸附部位的厚度大,安装部位与吸附部位连接在一起,呈阶梯状设置,它们之间的厚度差能够用于容纳片状原料。
5.根据权利要求2所述的一种吸盘,其特征在于,吸盘主体内设有至少一个抽气通道,抽气通道至少连通一个气孔。
6.根据权利要求2所述的一种吸盘,其特征在于,气槽能成环形、方形、椭圆形、螺旋形,且当气槽数量大于等于两个时,气槽呈同心分布。
7.根据权利要求4所述的一种吸盘,其特征在于,插片部位的厚度较吸附部位要小,形成一个易于插入片状原料之间的导向结构。
8.根据权利要求2或7所述的一种吸盘,其特征在于,该吸盘为对称体,卡槽和安装孔成对的对称设于安装部位,插片部位设有对称的双斜面,且插片部位呈尖状,尖状锋锐处进行磨平,尖状角部对称设有倒角。
9.根据权利要求8所述的一种吸盘,其特征在于,吸附部位上设有3个环形气槽,它们呈同心分布,且槽深相同,每个气槽的底部皆设有一个气孔,三个气孔呈直线排布在该吸盘的对称面上,且皆位于环形气槽靠近安装部位的一侧上,吸盘主体内还设有一个抽气通道,抽气通道的截面呈扁长方形状,且该抽气通道穿过安装部位连通吸附部位内的所有气孔。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





