[实用新型]狭缝喷嘴及基板处理装置有效
| 申请号： | 201921053610.2 | 申请日： | 2019-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN210449710U | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 安陪裕滋;高村幸宏 | 申请（专利权）人： | 株式会社斯库林集团 |
| 主分类号： | B05C5/02 | 分类号： | B05C5/02;B05C11/10 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 罗英;臧建明 |
| 地址： | 日本京都府京都市上京区堀川通寺之内上*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种狭缝喷嘴及基板处理装置，能够在狭缝喷嘴的吐出口的两端部扩大开口尺寸的可调整范围而提高膜厚的均匀性。狭缝喷嘴包括：第一本体部，沿吐出口的长度方向延伸设置；第二本体部，以与第一本体部相向的方式配置而形成吐出口；中央调整机构，在长度方向上的第二本体部的中央区域使第二本体部的前端部相对于第一本体部位移而调整在吐出口的中央区域的开口尺寸；以及两端调整机构，在长度方向上的第二本体部的两端区域使第二本体部的前端部相对于第一本体部位移而调整在吐出口的两端区域的开口尺寸；并且通过两端调整机构而使第二本体部的前端部位移的位移能力高于通过中央调整机构而使第二本体部的前端部位移的位移能力。 | ||
| 搜索关键词： | 狭缝 喷嘴 处理 装置 | ||
【主权项】：
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