[实用新型]一种适用于磁控溅射仪的靶与基之间间距自动调节装置

摘要

本实用新型公开了一种适用于磁控溅射仪的靶与基之间间距自动调节装置，其特征在于，包括靶材试验台及设置在靶材试验台下方的试验台自动升降装置，所述试验台自动升降装置包括试验台、样品架、基体、直线电机、直线电机输出轴、第一铰接座、第二铰接座、第一销轴、第二销轴、第二连杆、第三连杆及第一滚轮，所述试验台底部设置有第一滑槽，所述第二铰接座及第一滑槽分别设置在试验台底部两侧靠近端部位置处，所述第一滚轮配合设置在第一滑槽内，且能在第一滑槽内滑动；本实用新型的有益效果是：该自动调节装置设计巧妙，结构合理，自动化程度高且使用方便，能够自动升降携带基体的试验台，调节镀膜的间距。