[实用新型]一种适用于磁控溅射仪的靶与基之间间距自动调节装置

说明书

本实用新型公开了一种适用于磁控溅射仪的靶与基之间间距自动调节装置，其特征在于，包括靶材试验台及设置在靶材试验台下方的试验台自动升降装置，所述试验台自动升降装置包括试验台、样品架、基体、直线电机、直线电机输出轴、第一铰接座、第二铰接座、第一销轴、第二销轴、第二连杆、第三连杆及第一滚轮，所述试验台底部设置有第一滑槽，所述第二铰接座及第一滑槽分别设置在试验台底部两侧靠近端部位置处，所述第一滚轮配合设置在第一滑槽内，且能在第一滑槽内滑动；本实用新型的有益效果是：该自动调节装置设计巧妙，结构合理，自动化程度高且使用方便，能够自动升降携带基体的试验台，调节镀膜的间距。

技术领域

本实用新型涉及镀膜领域，具体涉及一种适用于磁控溅射仪的靶与基之间间距自动调节装置。

背景技术

具备优异力学性能的纳米薄膜在石油、化工、制药等领域具有广泛的应用前景。磁控溅射仪是一种先进、普及、成熟的镀膜仪器，适用于制备金属强化膜、半导体太阳能薄膜、磁性器件薄膜甚至陶瓷薄膜。通过磁控溅射镀膜，成膜速度快，薄膜质量高，膜-基结合力强，薄膜成分、结构均匀。磁控溅射仪在镀膜时，其靶材与基体的距离会严重影响成膜质量。目前，靶材与基体的距离只能通过手柄手动调节，具有很大误差，且试验台较重，转动手柄费时费力。因此，如何开发适用于磁控溅射仪的自动升降试验平台，能够精确的调整基体与靶材的间距，已经成为优质薄膜研发领域的关键性难题。

实用新型内容

针对现有技术中存在的上述问题，本实用新型的目的在于提供一种适用于磁控溅射仪的靶与基之间间距自动调节装置，以使得磁控溅射仪在镀膜过程中，可以自动精确的调整基体与靶材的间距，提高成膜质量。

本实用新型的技术方案如下：

一种适用于磁控溅射仪的靶与基之间间距自动调节装置，其特征在于，包括靶材试验台及设置在靶材试验台下方的试验台自动升降装置，所述试验台自动升降装置包括试验台、样品架、基体、直线电机、直线电机输出轴、第一铰接座、第二铰接座、第一销轴、第二销轴、第二连杆、第三连杆及第一滚轮，所述试验台底部设置有第一滑槽，所述第二铰接座及第一滑槽分别设置在试验台底部两侧靠近端部位置处，所述第一滚轮配合设置在第一滑槽内，且能在第一滑槽内滑动；所述第三连杆一端与第一滚轮活动连接，另一端与第一铰接座相连，所述第二连杆的一端与第二铰接座相连，另一端通过第一销轴与直线电机输出轴相连，所述第二连杆与第三连杆中部通过第二销轴活动连接。

所述的一种适用于磁控溅射仪的靶与基之间间距自动调节装置，其特征在于，所述靶材试验台包括冷却水箱、设置在冷却水箱上的靶材架、设置在靶材架上的靶材，所述靶材架内部设有冷却水管，并通过冷却水管与冷却水箱相连通。

所述的一种适用于磁控溅射仪的靶与基之间间距自动调节装置，其特征在于，所述靶材试验台上设有转动装置，所述转动装置包括电机及设置在电机的电机轴上的第一连杆，所述第一连杆与靶材试验台固定连接。

所述的一种适用于磁控溅射仪的靶与基之间间距自动调节装置，其特征在于，所述冷却水箱下端设有排水口，所述排水口上设有排水口密封盖，所述冷却水箱上方设有进水口，所述进水口上设有进水口密封盖。

所述的一种适用于磁控溅射仪的靶与基之间间距自动调节装置，其特征在于，所述靶材架设有两个包括第一靶材架及第二靶材架，所述第一靶材架及第二靶材架对称设置在冷却水箱底部，所述第一靶材架内部设置有第一冷却水管，第一冷却水管与冷却水箱相连，所述第一靶材架上固定连接有第一靶材；所述第二靶材架内部设置有第二冷却水管，第二冷却水管与冷却水箱相连，第二靶材架上方固定连接有第二靶材。

所述的一种适用于磁控溅射仪的靶与基之间间距自动调节装置，其特征在于，所述冷却水箱内的冷却介质采用去离子水。

本实用新型的有益效果是：

1）该自动调节装置设计巧妙，结构合理，自动化程度高且使用方便，能够自动升降携带基体的试验台，调节镀膜的间距。