[实用新型]一种适用于磁控溅射仪的靶与基之间间距自动调节装置

权利要求书

1.一种适用于磁控溅射仪的靶与基之间间距自动调节装置，其特征在于，包括靶材试验台及设置在靶材试验台下方的试验台自动升降装置，所述试验台自动升降装置包括试验台（3）、样品架、基体、直线电机（28）、直线电机输出轴（29）、第一铰接座（1）、第二铰接座（2）、第一销轴（32）、第二销轴（34）、第二连杆（33）、第三连杆（35）及第一滚轮（31），所述试验台（3）底部设置有第一滑槽（27），所述第二铰接座（2）及第一滑槽（27）分别设置在试验台（3）底部两侧靠近端部位置处，所述第一滚轮（31）配合设置在第一滑槽（27）内，且能在第一滑槽（27）内滑动；所述第三连杆（35）一端与第一滚轮（31）活动连接，另一端与第一铰接座（1）相连，所述第二连杆（33）的一端与第二铰接座（2）相连，另一端通过第一销轴（32）与直线电机输出轴（29）相连，所述第二连杆（33）与第三连杆（35）中部通过第二销轴（34）活动连接。

2.根据权利要求1所述的一种适用于磁控溅射仪的靶与基之间间距自动调节装置，其特征在于，所述靶材试验台包括冷却水箱（11）、设置在冷却水箱（11）上的靶材架、设置在靶材架上的靶材，所述靶材架内部设有冷却水管，并通过冷却水管与冷却水箱（11）相连通。

3.根据权利要求1所述的一种适用于磁控溅射仪的靶与基之间间距自动调节装置，其特征在于，所述靶材试验台上设有转动装置，所述转动装置包括电机（16）及设置在电机（16）的电机轴上的第一连杆（13），所述第一连杆（13）与靶材试验台固定连接。

4.根据权利要求2所述的一种适用于磁控溅射仪的靶与基之间间距自动调节装置，其特征在于，所述冷却水箱（11）下端设有排水口，所述排水口上设有排水口密封盖（20），所述冷却水箱（11）上方设有进水口（18），所述进水口（18）上设有进水口密封盖（17）。

5.根据权利要求2所述的一种适用于磁控溅射仪的靶与基之间间距自动调节装置，其特征在于，所述靶材架设有两个包括第一靶材架（9）及第二靶材架（22），所述第一靶材架（9）及第二靶材架（22）对称设置在冷却水箱（11）底部，所述第一靶材架（9）内部设置有第一冷却水管（10），第一冷却水管（10）与冷却水箱（11）相连，所述第一靶材架（9）上固定连接有第一靶材（8）；所述第二靶材架（22）内部设置有第二冷却水管（21），第二冷却水管（21）与冷却水箱（11）相连，第二靶材架（22）上方固定连接有第二靶材（23）。

6.根据权利要求4所述的一种适用于磁控溅射仪的靶与基之间间距自动调节装置，其特征在于，所述冷却水箱（11）内的冷却介质采用去离子水（19）。