[实用新型]一种磁控溅射反应设备换样片装置有效
申请号: | 201920924587.3 | 申请日: | 2019-06-19 |
公开(公告)号: | CN210314469U | 公开(公告)日: | 2020-04-14 |
发明(设计)人: | 鲁聪达;俞越翎;马毅;黄先伟;宋宇轩;张泰华 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人: | 周希良;俞昊文 |
地址: | 310014 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种磁控溅射反应设备换样片装置,包括取样长杆,所述装置还包括圆筒、样片基座及设于取样长杆前部的长杆端部,所述长杆端部包括长杆端头、电磁铁、伸缩机构及微动开关,所述电磁铁、伸缩机构及微动开关设于圆筒内,所述电磁铁设于长杆端头的后方,所述电磁铁后方装设有伸缩机构,所述伸缩机构的尾端伸缩接触微动开关,所述样片基座包括设有凹陷口的尾端,所述长杆端头在尾端的凹陷口进出。本实用新型运用磁铁吸力实现取样,并使用弹簧和微动开关实现长杆自动脱出,在缩短搬运的时间,且要避免样片在搬运过程中受到损伤,以提高生产效率和成品率,并有利于提高整台设备的密封性,保证了工艺环境的洁净度。 | ||
搜索关键词: | 一种 磁控溅射 反应 设备 样片 装置 | ||
【主权项】:
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