[实用新型]用于全反射X射线荧光分析中的载样反射体清洗架有效
| 申请号： | 201920820052.1 | 申请日： | 2019-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN210304953U | 公开（公告）日： | 2020-04-14 |
| 发明（设计）人： | 詹秀春;樊兴涛;储彬彬;郭威 | 申请（专利权）人： | 国家地质实验测试中心 |
| 主分类号： | B08B13/00 | 分类号： | B08B13/00;G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 100037 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于全反射X射线荧光分析中的载样反射体清洗架，包括：底部和凸起的边缘有刻槽、中央有螺孔的清洗架底，中央有圆孔的压板，用于固定压板和连接架底的头部带螺纹、中间凸起、尾部带手柄的连接压杆。本实用新型结构简单，将反射体垂直放入架底底部的刻槽，通过控制底部刻槽的长度使反射体仅部分进入，反射体会自动嵌入到边缘的刻槽，从而使反射体保持垂直不倒状态；反射体与清洗架形成一个整体，可以一起放入清洗液中进行清洗，而过程中反射体不会掉落，反射体互相之间不会摩擦和碰撞，保证反射体表面光洁度不会损害；架底刻槽是通透的，清洗完成后，清洗液易于去除；清洗架由聚四氟材料制作，可适用于各种清洗液。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 全反射 射线 荧光 分析 中的 反射 清洗 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国家地质实验测试中心，未经国家地质实验测试中心许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201920820052.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
