[实用新型]用于全反射X射线荧光分析中的载样反射体清洗架有效
申请号: | 201920820052.1 | 申请日: | 2019-06-03 |
公开(公告)号: | CN210304953U | 公开(公告)日: | 2020-04-14 |
发明(设计)人: | 詹秀春;樊兴涛;储彬彬;郭威 | 申请(专利权)人: | 国家地质实验测试中心 |
主分类号: | B08B13/00 | 分类号: | B08B13/00;G01N23/223 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 100037 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 全反射 射线 荧光 分析 中的 反射 清洗 | ||
1.一种用于全反射X射线荧光分析中的载样反射体清洗架,其特征在于:
包括清洗架底、压板、和连接压杆,
所述清洗架底的中央具有螺孔,在外侧具有凸起的边缘,在所述边缘和所述边缘与中央之间的底部均具有多个刻槽,在所述边缘上的刻槽和所述底部上的刻槽彼此配合,以用于固定待清洗的圆片状载样反射体;
所述压板的中央具有圆孔;
所述连接压杆为近似“十”字形,上部为手柄,中间为凸起,底部外侧具有螺纹;
所述连接压杆穿过所述压板中间的圆孔,拧入所述清洗架底的中央的螺孔,在所述压板和所述清洗架底之间具有一定的空间以用于容纳待清洗的反射体。
2.根据权利要求1所述的载样反射体清洗架,其特征在于:
所述清洗架底的外轮廓为圆形,其中央为带螺孔的两级台,外侧边缘的刻槽与底部的刻槽的数量相同且对称分布,每个刻槽宽度相同,且位于圆形的外轮廓的径线上。
3.根据权利要求2所述的载样反射体清洗架,其特征在于:
所述清洗架底的底部刻槽靠近外边缘的部分保持通透。
4.根据权利要求2所述的载样反射体清洗架,其特征在于:
所述清洗架底的外部边缘的高度与中间的所述两级台的高度相同,所述两级台的高度从中间往外侧逐渐减低。
5.根据权利要求1所述的载样反射体清洗架,其特征在于:
所述压板为倒置圆台形,其中心孔的直径略大于连接压杆的直径,圆台的长直径等于或略大于放置的多个反射体的顶点连接线形成的圆的直径,其短直径等于所述清洗架底底部刻槽的内缘到所述清洗架底中心距离的两倍。
6.根据权利要求1所述的载样反射体清洗架,其特征在于:
所述连接压杆的上部为圆柱状手柄、中间为圆形凸起、底部为带螺纹头的圆杆;底部圆杆的长度等于待清洗的载样反射体的直径与压板的长直径部分的厚度的之和,底部圆杆的直径与清洗底架中央的螺孔直径相同,且外侧的螺纹与清洗底架中央的螺孔配合。
7.根据权利要求6所述的载样反射体清洗架,其特征在于:
所述连接压杆的中间的圆形凸起的直径是压板的长直径的一半。
8.根据权利要求1-7中任意一项所述的载样反射体清洗架,其特征在于:
所述清洗架底、压板和连接压杆的材质均为聚四氟乙烯。
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