[实用新型]用于全反射X射线荧光分析中的载样反射体清洗架

说明书

一种用于全反射X射线荧光分析中的载样反射体清洗架，包括：底部和凸起的边缘有刻槽、中央有螺孔的清洗架底，中央有圆孔的压板，用于固定压板和连接架底的头部带螺纹、中间凸起、尾部带手柄的连接压杆。本实用新型结构简单，将反射体垂直放入架底底部的刻槽，通过控制底部刻槽的长度使反射体仅部分进入，反射体会自动嵌入到边缘的刻槽，从而使反射体保持垂直不倒状态；反射体与清洗架形成一个整体，可以一起放入清洗液中进行清洗，而过程中反射体不会掉落，反射体互相之间不会摩擦和碰撞，保证反射体表面光洁度不会损害；架底刻槽是通透的，清洗完成后，清洗液易于去除；清洗架由聚四氟材料制作，可适用于各种清洗液。

技术领域

本实用新型涉及X射线荧光分析领域。具体地说是一种用于清洗全反射X射线荧光光谱分析中圆片形的载样反射体的清洗架。

背景技术

穿透性地球化学探测中的地气溶胶样品、活动态提取样品、地下水样品，生态环境监测、保护和修复中的土壤样品、水体样品，医疗和疾病检查和防护中的血液、尿液、组织切片等样品，其中的深部矿产指示元素、土壤及水样有益有害元素种类及含量、生物体液及组织中的有害有益元素含量及种类等信息获取是相关科学研究和工程实施的关键。鉴于这些样品微少或急需快速获取即时数据的需求，需要快速、经济、准确的分析技术。全反射X射线荧光分析技术具有灵敏度高、性能牢靠、精密度高、简便快速的特点，正好适合解决这些问题。

全反射X射线荧光分析中，待分析的样品被滴加或涂布在一个称之为反射体的片状载体上，用于激发样品中元素特征X射线的光源以临界角照射在反射体上，此时，未被样品吸收的入射辐射沿反射体表面出射。X射线全反射临界角一般都在毫弧度量级，入射辐射以近乎贴近反射体表面的方式入射，允许探测器与反射体表面的距离非常近，探测立体角很大，可以得到更高的元素特征X射线强度；另一方面，在全反射模式下，理想条件下不会产生散射，因此探测噪声非常低；因此，全反射X射线荧光光谱分析具有极高的灵敏度，典型的绝对量检出下限为pg量级。

全反射X射线荧光分析中，反射体表面的光洁度、平整度要求非常高，加工成本也很高，重复多次使用成为减低成本的唯一途径。但是，由于分析灵敏度极高，反射体表面的清洁度要求也极高。因此，每次使用后的清洗过程极为关键，既要保证清洗干净，也要保证在清洗过程中不损害其表面的光洁度和平整度，这就需要避免在清洗过程中反射体与容器及反射体之间的接触和碰撞。

因此，如何配备清洗配件，便于载样反射体的设置，且保证清洗对载样反射体的损害成为现有技术亟需解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提出一种全反射X射线荧光分析中的载样反射体清洗架，该清洗架可以同时放置并固定多个载样反射体，投入清洗池/杯/桶中，完成清洗后可以整体取出；在清洗过程中，各反射体之间保持一定的间隔，可以避免互相碰撞而造成表面划痕，并保证清洗效果。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种用于全反射X射线荧光分析中的载样反射体清洗架，其特征在于：

包括清洗架底、压板、和连接压杆，所述清洗架底的中央具有螺孔，在外侧具有凸起的边缘，在所述边缘和所述边缘与中央之间的底部均具有多个刻槽，在所述边缘上的刻槽和所述底部上的刻槽彼此配合，以用于固定待清洗的圆片状载样反射体；

所述压板的中央具有圆孔；

所述连接压杆为近似“十”字形，上部为手柄，中间为凸起，底部外侧具有螺纹；

所述连接压杆穿过所述压板中间的圆孔，拧入所述清洗架底的中央的螺孔，在所述压板和所述清洗架底之间具有一定的空间以用于容纳待清洗的反射体。

可选的，所述清洗架底的外轮廓为圆形，其中央为带螺孔的两级台，外侧边缘的刻槽与底部的刻槽的数量相同且对称分布，每个刻槽宽度相同，且位于圆形的外轮廓的径线上。