[实用新型]晶片抛光系统有效
| 申请号： | 201920697123.3 | 申请日： | 2019-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN210189428U | 公开（公告）日： | 2020-03-27 |
| 发明（设计）人： | 郑加镇;卢建平 | 申请（专利权）人： | 徐州鑫晶半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/005 | 分类号： | B24B37/005;B24B37/015;B24B37/34;B24B41/00 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 赵天月 |
| 地址： | 221004 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种晶片抛光系统，包括：旋转盘，旋转盘内形成换热空间，换热空间具有循环水入口和循环水出口，旋转盘上表面设有抛光垫；承载装置，承载装置可旋转地设在旋转盘旋转轴的一侧且位于旋转盘的上方，承载装置上安装有晶片，晶片朝向旋转盘上表面设置；温度检测装置，温度检测装置设在旋转盘的上方；温度补偿装置，温度补偿装置设在旋转盘的上方；控制装置，控制装置与温度检测装置、承载装置和温度补偿装置相连，控制装置基于温度检测装置的显示调节承载装置的压力和/或温度补偿装置的功率，以保持抛光垫的温度恒定。采用该系统可以有效保持抛光过程中环境温度恒定，从而提高所得晶片的品位。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 抛光 系统 | ||
【主权项】：
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