[实用新型]一种氧化扩散退火炉有效
| 申请号： | 201920668405.0 | 申请日： | 2019-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN209658142U | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 刘洋 | 申请（专利权）人： | 青岛华旗科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/677;F27B17/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266000 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种氧化扩散退火炉，包括上机柜一以及下机柜，所述上机柜一由炉体机构、夹持机构、传动机构，与现有技术相比，本实用新型具有如下的有益效果：氧化、扩散、退火等工艺的机械机构模块化，不同工艺的零件尺寸、位置最大限度的标准化，选材普遍化，降低工艺结构在生产制造过程中的人工、采购成本；客户可根据需要任意置换，增大设备的利用率，体积小、可节省空间，尤其适用于实验室和科研项目，便于客户在更小的工作间内操作使用；机械结构外形和对接尺寸相同，可叠加，一台设备可具备二种工艺或一种工艺有二管，增加客户对各种不同工艺的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 本实用新型 上机柜 客户 退火 生产制造过程 扩散 工艺结构 机械机构 机械结构 夹持机构 节省空间 炉体机构 可叠加 模块化 体积小 退火炉 下机柜 工作间 科研项目 选材 置换 标准化 采购 | ||
【主权项】：
1.一种氧化扩散退火炉，包括上机柜一以及下机柜，其特征在于：所述上机柜一由炉体机构、夹持机构、传动机构，其中炉体组件安装在上机柜内部中间位置，传动机构安装固定在上机柜一底侧，在传动机构后侧安装有伺服驱动系统，夹持机构连接在传动机构上侧，所述上机柜一的顶部设置有顶罩组件，所述上机柜一安装在下机柜的上方，所述下机柜的侧面设置有底加工件，所述上机柜一的侧面设置有下加工件和上加工件，所述下加工件设置在上机柜一的侧面下侧，所述上加工件设置在上机柜一的侧面上侧，所述底加工件与下加工件通过内六角螺栓固定。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
