[实用新型]一种物理气相沉积镀膜设备的基片架

摘要

本实用新型公开了一种物理气相沉积镀膜设备的基片架，涉及真空镀膜设备技术领域，所述基片架包括基片架本体和顶针机构，基片架本体呈竖直设置的方形框架结构，所述基片架本体的两侧均装设有至少一个夹具组件，用于固定玻璃板，所述夹具组件上开设有功能孔；顶针机构位于所述基片架本体的一侧，与所述夹具组件一一对应设置，所述顶针机构的输出端与所述功能孔对应设置，用于控制所述夹具组件对所述玻璃板的固定。本实用新型的基片架通过顶针机构插入到功能孔内并在功能孔内的拨动实现对夹具组件的固定与松开的操作，准确率高，磨损小，可以精准稳定的控制夹具组件，保证基片架上下玻璃片的稳定性和准确性。