[实用新型]一种物理气相沉积镀膜设备的基片架

说明书

本实用新型公开了一种物理气相沉积镀膜设备的基片架，涉及真空镀膜设备技术领域，所述基片架包括基片架本体和顶针机构，基片架本体呈竖直设置的方形框架结构，所述基片架本体的两侧均装设有至少一个夹具组件，用于固定玻璃板，所述夹具组件上开设有功能孔；顶针机构位于所述基片架本体的一侧，与所述夹具组件一一对应设置，所述顶针机构的输出端与所述功能孔对应设置，用于控制所述夹具组件对所述玻璃板的固定。本实用新型的基片架通过顶针机构插入到功能孔内并在功能孔内的拨动实现对夹具组件的固定与松开的操作，准确率高，磨损小，可以精准稳定的控制夹具组件，保证基片架上下玻璃片的稳定性和准确性。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，尤其涉及一种物理气相沉积镀膜设备的基片架。

背景技术

目前，市场上所生产的镀膜玻璃一般采用真空磁控溅射的方式，玻璃基片架以仓室大小为准，以运动中的基片架来承载玻璃进行镀膜。基片架上下玻璃板时，需要用楔形顶杆硬插到卡片定位装置中，控制对玻璃板的固定与松开。但是，楔形顶杆插入卡片定位装置时，准确率低，磨损大，而且经常出现不能完全打开装置，造成宕机。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种物理气相沉积镀膜设备的基片架，能够。

为了达到上述目的，本实用新型采用的主要技术方案包括：

一方面，本实用新型实施例提供一种物理气相沉积镀膜设备的基片架，包括：

基片架本体，呈竖直设置的方形框架结构，所述基片架本体的两侧均装设有至少一个夹具组件，用于固定玻璃板，所述夹具组件上开设有功能孔；

顶针机构，位于所述基片架本体的一侧，与所述夹具组件一一对应设置，所述顶针机构的输出端与所述功能孔对应设置，用于控制所述夹具组件对所述玻璃板的固定。

本实用新型的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本实用新型而了解。本实用新型的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

附图说明

附图用来提供对本实用新型技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本实用新型的技术方案，并不构成对本实用新型技术方案的限制。

图1为本实用新型提供所述基片架的整体结构图；

图2为本实用新型提供所述夹具组件的整体结构图；

图3为本实用新型提供所述夹具组件另一个角度的结构图；

图4为本实用新型提供所述顶针结构的主视图。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例的附图，对本实用新型实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本实用新型的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1-4所示，本实用新型提供一种物理气相沉积镀膜设备的基片架，包括基片架本体100和顶针机构200，基片架本体100呈竖直设置的方形框架结构，所述基片架本体100的两侧均装设有至少一个夹具组件300，用于固定玻璃板，所述夹具组件300上开设有功能孔321；顶针机构200位于所述基片架本体100的一侧，与所述夹具组件300一一对应设置，所述顶针机构200的输出端与所述功能孔321对应设置，用于控制所述夹具组件300对所述玻璃板的固定。