[实用新型]一种物理气相沉积镀膜设备的基片架

权利要求书

1.一种物理气相沉积镀膜设备的基片架，其特征在于，包括：

基片架本体，呈竖直设置的方形框架结构，所述基片架本体的两侧均装设有至少一个夹具组件，用于固定玻璃板，所述夹具组件上开设有功能孔；

顶针机构，位于所述基片架本体的一侧，与所述夹具组件一一对应设置，所述顶针机构的输出端与所述功能孔对应设置，用于控制所述夹具组件对所述玻璃板的固定。

2.根据权利要求1所述的物理气相沉积镀膜设备的基片架，其特征在于，所述夹具组件包括：

夹具本体，固定设置于所述基片架本体上，所述夹具本体与所述基片架本体之间被形成有滑动腔室；

滑动件，设置于所述滑动腔室内，所述滑动件通过弹性件与所述夹具本体连接，所述功能孔开设于所述滑动件上，所述玻璃板固定于所述滑动件远离所述夹具本体的一端与所述基片架本体之间。

3.根据权利要求2所述的物理气相沉积镀膜设备的基片架，其特征在于，所述夹具本体上开设有定位孔，所述定位孔与所述功能孔对应设置，所述功能孔被所述顶针机构拨动与所述定位孔重合。

4.根据权利要求3所述的物理气相沉积镀膜设备的基片架，其特征在于，所述功能孔和所述定位孔均为腰型孔。

5.根据权利要求2所述的物理气相沉积镀膜设备的基片架，其特征在于，所述滑动件的两侧突出被形成两个凸出部，两个所述凸出部均通过所述弹性件与所述夹具本体连接。

6.根据权利要求5所述的物理气相沉积镀膜设备的基片架，其特征在于，所述弹性件为弹簧。

7.根据权利要求1所述的物理气相沉积镀膜设备的基片架，其特征在于，所述基片架本体包括首尾依次连接的第一竖杆、上挡板、第二竖杆和下挡板，所述夹具组件对称设置于所述第一竖杆和第二竖杆上，所述下挡板上设置有托块，用于卡接玻璃板。

8.根据权利要求7所述的物理气相沉积镀膜设备的基片架，其特征在于，装设于所述第一竖杆和所述第二竖杆的夹具组件的数量均为3个，且等间距分布。

9.根据权利要求1所述的物理气相沉积镀膜设备的基片架，其特征在于，所述顶针机构包括顶针和推动机构，所述顶针在所述推动机构的作用下运动。

10.根据权利要求9所述的物理气相沉积镀膜设备的基片架，其特征在于，所述推动机构为气缸。